高周波アンテナユニット及びプラズマ処理装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：特許業務法人京都国際特許事務所
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2013155212
Publication number (International publication number)：2013258153
Patent number：5749769
Application date： Jul. 26, 2013
Publication date： Dec. 26, 2013
Claim (excerpt)：

【請求項1】真空容器内にプラズマを発生させるための装置で用いられる高周波アンテナユニットにおいて、 a) 高周波電流を流すための開放ループ形の高周波アンテナと、 b) 前記高周波アンテナのうち真空容器内に存在する部分の周囲に設けられた絶縁体製の保護管と、 c) 前記高周波アンテナと前記保護管の間の領域であって、圧力が大気圧であり、該領域内に大気が導入されている緩衝領域と、 d) 前記高周波アンテナを前記真空容器に取り付けるための、該高周波アンテナの両端を保持する取付具と、 e) 前記取付具に設けられた、前記緩衝領域と前記真空容器の外を連通する連通孔とを備えることを特徴とする高周波アンテナユニット。

IPC (3)：

H05H 1/46 ( 200 6.01) , H01L 21/3065 ( 200 6.01) , C23C 16/505 ( 200 6.01)

FI (3)：

H05H 1/46 L , H01L 21/302 101 C , C23C 16/505

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-207161 Applicant：東京エレクトロン株式会社
耐プラズマ部材
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-042604 Applicant：京セラ株式会社
半導体材料処理装置におけるイットリアでコーティングされたセラミック部品及びその部品を製造する方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2006-545751 Applicant：ラムリサーチコーポレーション

Show all

Return to Previous Page