プラズマ処理装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (5)：石田敬 , 鶴田準一 , 吉井一男 , 西山雅也 , 樋口外治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002207161
Publication number (International publication number)：2004055600
Application date： Jul. 16, 2002
Publication date： Feb. 19, 2004
Summary：

【課題】大面積の被処理体を処理する場合であっても、高効率で且つ高密度のプラズマを生成することが可能なプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】処理チャンバ内に高周波電力を供給してプラズマを発生させ、該プラズマに基づき被処理体を処理するプラズマ処理装置において、処理チャンバの天板を巻くように、高周波アンテナが処理チャンバ内および処理チャンバ外に配置される。天板が金属またはシリコンをベースとする材料から構成されていてもよい。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

処理チャンバ内に高周波電力を供給してプラズマを発生させ、該プラズマに基づき被処理体を処理するプラズマ処理装置であって; 前記処理チャンバが、前記プラズマが生成すべき領域を介して前記被処理体と対向する天板を有し、且つ、該天板を巻くように、高周波アンテナが処理チャンバ内および処理チャンバ外に配置されていることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (3)：

H01L21/205 , C23C16/509 , H01L21/3065

FI (3)：

H01L21/205 , C23C16/509 , H01L21/302 101D

F-Term (20)：

4K030FA03 , 4K030JA03 , 4K030KA01 , 4K030KA15 , 4K030KA20 , 4K030KA30 , 4K030KA39 , 4K030KA46 , 5F004AA16 , 5F004BA20 , 5F004BB11 , 5F004BB18 , 5F004BB29 , 5F004BD04 , 5F004CA06 , 5F045AA09 , 5F045DP03 , 5F045DQ10 , 5F045EH02 , 5F045EH20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (11)

プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-138375 Applicant：三菱電機株式会社
プラズマ発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-208966 Applicant：国際電気株式会社
高周波放電方法及びその装置並びに高周波処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-007581 Applicant：株式会社東芝

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