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J-GLOBAL ID:201503059645562523
開口部の分布が非均一な研磨物品
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (5):
渡邉 一平
, 佐藤 博幸
, 小池 成
, 大賀 眞司
, 百本 宏之
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2014550540
Publication number (International publication number):2015503464
Application date: Dec. 31, 2012
Publication date: Feb. 02, 2015
Summary:
非均一分布パターンに配置された複数のアパーチャを有する被覆研磨材であって:パターンは、螺旋または葉序であり、特にフォーゲル式によって説明されるパターンである、研磨物品。また、提供されるのは、螺旋または葉序パターンのエアフロー経路(オープンなチャンネルの形態等)を有するバックアップパッドである。バックアップパッドは、具体的には、非均一分布パターンを有する研磨物品と対応するように構成されてよい。あるいは、バックアップパッドは、穴が突き通った従来の被覆研磨材と共に、用いられ得る。アパーチャおよびバックアップパッドの非均一分布パターンを有する研磨物品は、研磨系として一緒に用いられてよい。【選択図】図1
Claim (excerpt):
アパーチャパターンに配置された複数のアパーチャを有する被覆研磨材を含み、アパーチャパターンは、分布が非均一に調節されている、研磨物品。
IPC (2):
FI (2):
B24D11/00 M
, B24D3/00 310D
F-Term (9):
3C063AA02
, 3C063AA03
, 3C063AB02
, 3C063AB07
, 3C063BA22
, 3C063BG04
, 3C063BG08
, 3C063FF08
, 3C063FF23
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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スーパーサイズコーティングを有する研磨材物品及び製造方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2009-552778
Applicant:スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー
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吸塵用研磨具
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-112204
Applicant:スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー
-
研磨パッド及び方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-138613
Applicant:日本ミクロコーティング株式会社, 株式会社ルネサステクノロジ
-
CMP用偏心溝付き研磨パッド
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-036869
Applicant:インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
-
研磨用回転砥石
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-040753
Applicant:ノリタケダイヤ株式会社, 株式会社ノリタケカンパニーリミテド
-
吸塵用研磨具
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-268351
Applicant:スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー
-
半導体ウェハ用研磨パッドの加工方法及び半導体ウェハ用研磨パッド
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-231943
Applicant:JSR株式会社
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改善されたスラリー分配を備えた化学機械研磨装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-043233
Applicant:アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
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ブレードレスターボ過給機
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2002-544544
Applicant:パロンボ,ジョンエフ
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