補償光学系及び光学装置

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：渡邊薫 , 井上美和子 , 大森桂子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2013195943
Publication number (International publication number)：2015060202
Application date： Sep. 20, 2013
Publication date： Mar. 30, 2015
Summary：

【課題】観察対象と揺らぎ層との距離や観察対象の大きさにかかわらず、従来よりも精度よく波面位相収差を補正することができ、更に従来よりも補正範囲の広い補償光学系及び光学装置を提供する。【解決手段】補償光学系に、入射光に対して収差補正を行い補正後の光を出射する波面位相変調器と、波面位相変調器により形成されるゆらぎ補正面と結像共役となる面の位置を試料内において自在に調整する結像共役位置調整機構とを設ける。そして、結像共役位置調整機構により、揺らぎ補正面が、試料内に存在する揺らぎ層と、結像共役になるように調整する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

入射光に対して収差補正を行い補正後の光を出射する波面位相変調器と、前記波面位相変調器により形成されるゆらぎ補正面と結像共役となる面の位置を試料内において自在に調整する結像共役位置調整機構と、を有し、前記結像共役位置調整機構により、前記揺らぎ補正面が、前記試料内に存在する揺らぎ層と、結像共役になるように調整される補償光学系。

IPC (2)：

G02B 21/06 , G01N 21/64

FI (2)：

G02B21/06 , G01N21/64 E

F-Term (25)：

2G043AA03 , 2G043BA16 , 2G043EA01 , 2G043GA02 , 2G043GA04 , 2G043GB05 , 2G043GB11 , 2G043HA01 , 2G043HA02 , 2G043HA06 , 2G043HA09 , 2G043JA02 , 2G043KA09 , 2G043LA03 , 2H052AA09 , 2H052AC04 , 2H052AC18 , 2H052AC27 , 2H052AC33 , 2H052AC34 , 2H052AD06 , 2H052AD20 , 2H052AD32 , 2H052AD34 , 2H052AF14

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

適応光学系を有する顕微鏡検査法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2012-519780 Applicant：ホワルドフグヘスメドイクアルインストイトウテ
収差補正方法、この収差補正方法を用いた顕微鏡観察方法、この収差補正方法を用いたレーザ照射方法、収差補正装置、及び、収差補正プログラム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2010-043099 Applicant：浜松ホトニクス株式会社
マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物器械
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2009-514709 Applicant：カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー

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