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J-GLOBAL ID:201603002404656566

排ガス浄化装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 特許業務法人 谷・阿部特許事務所
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2014244073
Publication number (International publication number):2016107173
Application date: Dec. 02, 2014
Publication date: Jun. 20, 2016
Summary:
【課題】捕集した排ガス中の粒子状物質を、新規な構成で処理する。【解決手段】本発明の排ガス浄化装置10は、流れ発生装置16と、処理装置18とを備える。流れ発生装置16は、粒子状物質を含む排ガスの流路を形成する筒状の外殻12の内側に配置される放電用電極20を備え、この放電用電極20は、電圧印加により、該放電用電極側から前記外殻側への流れを生じさせるように構成されている。処理装置18は、該流れ発生装置16の放電用電極20と外殻12との間に放電部材30を備える。放電部材30は、誘電体30eに少なくとも一部が覆われた第1電極30dを備える。処理装置18は、第1電極30dに対する電圧印加により、外殻12内の誘電体30eの外側でオゾンなどの酸化促進成分を生じさせることができる。【選択図】図1
Claim (excerpt):
粒子状物質を含む排ガスの流路を形成する筒状の外殻の内側に配置される放電用電極を備え、該放電用電極は、電圧印加により、該放電用電極側から前記外殻側への流れを生じさせるように構成されている、流れ発生装置と、 該流れ発生装置の前記放電用電極と前記外殻との間に配置される放電部材を備えた処理装置であって、該放電部材は、誘電体に少なくとも一部が覆われた第1電極を備え、該処理装置は、前記第1電極に対する電圧印加により、前記外殻内の前記誘電体の外側で酸化促進成分を生じさせるように構成されている、処理装置と を備えた排ガス浄化装置。
IPC (7):
B03C 3/74 ,  B03C 3/02 ,  B03C 3/40 ,  B03C 3/68 ,  B03C 3/49 ,  F01N 3/01 ,  F01N 3/02
FI (7):
B03C3/74 Z ,  B03C3/02 C ,  B03C3/40 A ,  B03C3/40 C ,  B03C3/68 Z ,  B03C3/49 ,  F01N3/02 301F
F-Term (22):
3G190AA02 ,  3G190AA12 ,  3G190AA13 ,  3G190CA21 ,  3G190CB19 ,  3G190CB23 ,  3G190DA25 ,  3G190DA33 ,  3G190DB05 ,  3G190EA33 ,  3G190EA43 ,  4D054AA03 ,  4D054BA02 ,  4D054BA19 ,  4D054BC06 ,  4D054BC31 ,  4D054CA11 ,  4D054CA12 ,  4D054CA18 ,  4D054CA20 ,  4D054DA11 ,  4D054DA20
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (11)
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Cited by examiner (11)
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