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J-GLOBAL ID：201603003544846434

カーボンナノウォール配列体およびカーボンナノウォールの製造方法

Inventor： 河原 敏男 ,  岡本 一将 ,  松本 和彦 ,  宇都宮 里佐 ,  松葉 晃明 ,  松本 均
Applicant, Patent owner： 学校法人中部大学 ,  国立大学法人北海道大学 ,  国立大学法人大阪大学 ,  日新電機株式会社
Agent (4)： 上羽 秀敏 ,  松山 隆夫 ,  坂根 剛 ,  川上 桂子
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2011149002
Publication number (International publication number)：2013014478
Patent number：5886547
Application date： Jul. 05, 2011
Publication date： Jan. 24, 2013
Claim (excerpt)：

【請求項1】 一主面に凹凸形状がストライプ状または碁盤目状に形成された基板と、 前記凹凸形状の凸部の長さ方向に沿って前記凸部上に形成された複数のカーボンナノウォールとを備え、 前記基板の面内方向における前記凸部の幅が前記基板の面内方向における前記凹凸形状の凹部の幅よりも狭く、かつ、前記凸部の幅が0.5μm以下であり、 前記複数のカーボンナノウォールの各々は、前記凹凸形状の複数の凸部に跨がらずに前記凹凸形状の1つの凸部の長さ方向に沿って前記1つの凸部上に形成される、カーボンナノウォール配列体。

IPC (3)：

C01B 31/02 ( 200 6.01) ,  B82Y 30/00 ( 201 1.01) ,  B82Y 40/00 ( 201 1.01)

FI (3)：

C01B 31/02 101 F ,  B82Y 30/00 ,  B82Y 40/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• カーボンナノウォール及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2008-081314   Applicant：国立大学法人名古屋大学, NUエコ・エンジニアリング株式会社
• カーボンナノウォールの製造方法と製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-343214   Applicant：平松美根男, 堀勝
• ナノ炭素材料複合基板、電子放出素子、ナノ炭素材料複合基板の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2009-037591   Applicant：凸版印刷株式会社
• 炭素構造体の製造装置及び製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-238305   Applicant：株式会社IHI, 公立大学法人横浜市立大学

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• NANO LETTERS, 20080220, Vol.8、No.3, p.902-907