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J-GLOBAL ID：201603007029239873

多孔質体およびその製造方法

Inventor： 中西 和樹 ,  伊藤 梨沙子 ,  石橋 恵
Applicant, Patent owner： ジーエルサイエンス株式会社
Agent (2)： 高橋 三雄 ,  高橋 大典
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2011136826
Publication number (International publication number)：2013003065
Patent number：5878308
Application date： Jun. 20, 2011
Publication date： Jan. 07, 2013
Claim (excerpt)：

【請求項1】 焼成により細孔が消失している無孔性連続骨格により構成された連続貫通孔の表面に、細孔を有する多孔性被覆層を有することを特徴とする多孔質体。

IPC (3)：

G01N 30/88 ( 200 6.01) ,  B01J 20/28 ( 200 6.01) ,  B01J 20/10 ( 200 6.01)

FI (8)：

G01N 30/88 201 G ,  G01N 30/88 101 K ,  G01N 30/88 101 E ,  G01N 30/88 101 S ,  G01N 30/88 101 M ,  G01N 30/88 201 X ,  B01J 20/28 A ,  B01J 20/10 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 多孔質体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-077057   Applicant：中西和樹, 曽我直弘, 株式会社京都モノテック
• 無機多孔質材料の製造法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-010125   Applicant：曽我直弘, 中西和樹, 有限会社エム・アール・シー
• 無機系多孔質カラム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-200392   Applicant：曽我直弘, 中西和樹
• 無機系および有機無機ハイブリッドコーティングの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-077047   Applicant：中西和樹
• クロマトグラフィー用多孔質体及びカラム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-098489   Applicant：ジーエルサイエンス株式会社
• 二元細孔シリカ及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-027064   Applicant：株式会社トクヤマ