下地剤及び相分離構造を含む構造体の製造方法

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (5)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 松本将尚 , 宮本龍 , 飯田雅人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2014247174
Publication number (International publication number)：2016107206
Application date： Dec. 05, 2014
Publication date： Jun. 20, 2016
Summary：

【課題】ブロックコポリマーの相分離性能が高め、簡便に用いる得る下地剤及び相分離構造を含む構造体の製造方法の提供。【解決手段】基板1上に形成した、疎水性ポリマーブロック(b11)と親水性ポリマーブロック(b21)とが結合したブロックコポリマーを含む層を相分離させる為の下地剤2で、樹脂成分を含み、該樹脂成分は、疎水性ポリマーブロック(b12)、又は親水性ポリマーブロック(b22)の構成単位を有し、主鎖の少なくとも一つの末端部に少なくとも二つ以上の水酸基を有する下地剤2。疎水性ポリマーブロック(b12)の構成単位が、置換基/未置換のスチレン骨格を含む構成単位(u1)を含有し、親水性ポリマーブロック(b22)の構成単位が、α位の炭素原子に結合したHが置換/未置換のアクリル酸エステルの構成単位(u2)を含有する下地剤2。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

基板上に形成した、疎水性ポリマーブロック(b11)と親水性ポリマーブロック(b21)とが結合したブロックコポリマーを含む層を相分離させるために用いられる下地剤であって、樹脂成分を含有し、該樹脂成分は、疎水性ポリマーブロック(b12)の構成単位、又は親水性ポリマーブロック(b22)の構成単位を有し、かつ、主鎖の少なくとも一つの末端部に少なくとも二つ以上の水酸基を有することを特徴とする、下地剤。

IPC (2)：

B05D 5/00 , H01L 21/027

FI (2)：

B05D5/00 Z , H01L21/30 502D

F-Term (17)：

4D075AE03 , 4D075AE07 , 4D075BB24Z , 4D075BB93Z , 4D075CA36 , 4D075CA37 , 4D075EA41 , 4D075EB14 , 4D075EB22 , 4D075EB32 , 4J100AB02P , 4J100BA03H , 4J100CA31 , 4J100HA61 , 4J100HC38 , 4J100JA32 , 5F146AA28

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

下地剤、ブロックコポリマーを含む層のパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2013-020932 Applicant：東京応化工業株式会社
下地剤及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2013-137276 Applicant：東京応化工業株式会社
下地剤及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2013-260594 Applicant：東京応化工業株式会社

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