下地剤及びパターン形成方法

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 鈴木三義 , 五十嵐光永
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2013260594
Publication number (International publication number)：2014185318
Application date： Dec. 17, 2013
Publication date： Oct. 02, 2014
Summary：

【課題】下地剤、及び該下地剤を用いたブロックコポリマーを含む層のパターン形成方法の提供。【解決手段】基板1上に形成した複数種類のブロックが結合したブロックコポリマー3を含む層を相分離させるために用いられる下地剤2であって、樹脂成分を含有し、該樹脂成分が、芳香族基を有する構成単位と、ヒドロキシアルキル基を有する構成単位と、芳香族基及びヒドロキシアルキル基を有しない構成単位と、を含むことを特徴とする下地剤。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

基板上に形成した複数種類のブロックが結合したブロックコポリマーを含む層を相分離させるために用いられる下地剤であって、樹脂成分を含有し、該樹脂成分が、芳香族基を有する構成単位と、ヒドロキシアルキル基を有する構成単位と、芳香族基及びヒドロキシアルキル基を有しない構成単位と、を含むことを特徴とする下地剤。

IPC (7)：

C09D 201/00 , B82Y 30/00 , B82Y 40/00 , C09D 5/00 , B05D 5/04 , B05D 7/24 , B05D 1/36

FI (7)：

C09D201/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C09D5/00 D , B05D5/04 , B05D7/24 302E , B05D1/36 Z

F-Term (18)：

4D075AE03 , 4D075BB21Z , 4D075CB38 , 4D075DA06 , 4D075DB14 , 4D075DC22 , 4D075EA41 , 4D075EB11 , 4D075EB14 , 4D075EB22 , 4J038CC021 , 4J038CC071 , 4J038CG031 , 4J038CG041 , 4J038CG171 , 4J038GA03 , 4J038PB09 , 4J038PB11

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

下層組成物および下層を像形成する方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2011-211852 Applicant：ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー., ダウグローバルテクノロジーズエルエルシー
下層組成物および下層を像形成する方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2011-213653 Applicant：ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー., ダウグローバルテクノロジーズエルエルシー
パターン形成方法及びモールド
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-211745 Applicant：日本電信電話株式会社

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