Pat
J-GLOBAL ID:201603017336663408
光伝導素子、テラヘルツ波発生装置、テラヘルツ波検出装置、テラヘルツ波発生方法およびテラヘルツ波検出方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
特許業務法人深見特許事務所
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2014247837
Publication number (International publication number):2016111219
Application date: Dec. 08, 2014
Publication date: Jun. 20, 2016
Summary:
【課題】より簡便に製造可能な、テラヘルツ波を発するまたは検出するための光伝導素子を提供する。【解決手段】光伝導素子1は、アンチモン(Sb)およびビスマス(Bi)のうちの少なくとも1種と、セレン(Se)およびテルル(Te)のうちの少なくとも1種とを含むトポロジカル絶縁体薄膜11を備える。これにより、光伝導素子の安価な製造が可能となる。光伝導素子1は、さらに、電極11,12を含むアンテナ構造体ANTを備える。電極11,12は、トポロジカル絶縁体薄膜11の面方向に沿って対向して配置される。光伝導素子1は、トポロジカル絶縁体薄膜11への光(フェムト秒パルス光91)の入射によって生じるキャリアを用いて、テラヘルツ波を発生させる(または検出する)ことができる。【選択図】図2
Claim (excerpt):
テラヘルツ波を発生または検出するための光伝導素子であって、
アンチモン(Sb)およびビスマス(Bi)のうちの少なくとも1種と、セレン(Se)およびテルル(Te)のうちの少なくとも1種とを含むトポロジカル絶縁体薄膜と、
前記トポロジカル絶縁体薄膜の面方向に沿って、対向して配置された第1および第2の電極を含むアンテナ構造体とを備える、光伝導素子。
IPC (4):
H01S 1/02
, H01S 3/00
, G01J 1/02
, G01N 21/358
FI (6):
H01S1/02
, H01S3/00 A
, G01J1/02 R
, G01J1/02 Q
, G01J1/02 C
, G01N21/3581
F-Term (20):
2G059AA05
, 2G059GG01
, 2G059GG08
, 2G059GG09
, 2G059HH05
, 2G059KK04
, 2G059KK10
, 2G065AA04
, 2G065AB01
, 2G065AB03
, 2G065BA34
, 2G065BA40
, 2G065BC04
, 2G065DA08
, 2G065DA13
, 5F172AE06
, 5F172AF07
, 5F172AM08
, 5F172NN17
, 5F172ZZ13
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
-
テラヘルツ波発生装置、カメラ、イメージング装置および計測装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2011-141089
Applicant:セイコーエプソン株式会社
-
光半導体装置およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-080780
Applicant:キヤノン株式会社
-
スピントランスファートルク磁気メモリデバイス
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2013-190354
Applicant:アイメック
-
相変化チャネルトランジスタ及びその駆動方法
Gazette classification:再公表公報
Application number:JP2013070449
Applicant:国立研究開発法人産業技術総合研究所
-
スピン電子メモリ及びスピン電子回路
Gazette classification:再公表公報
Application number:JP2012078473
Applicant:国立研究開発法人産業技術総合研究所
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Cited by examiner (5)
-
テラヘルツ波発生装置、カメラ、イメージング装置および計測装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2011-141089
Applicant:セイコーエプソン株式会社
-
光半導体装置およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-080780
Applicant:キヤノン株式会社
-
スピントランスファートルク磁気メモリデバイス
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2013-190354
Applicant:アイメック
-
相変化チャネルトランジスタ及びその駆動方法
Gazette classification:再公表公報
Application number:JP2013070449
Applicant:国立研究開発法人産業技術総合研究所
-
スピン電子メモリ及びスピン電子回路
Gazette classification:再公表公報
Application number:JP2012078473
Applicant:国立研究開発法人産業技術総合研究所
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Article cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
-
“THz-emission probe of surface-electronic transitions in a topological insulator”
Cited by examiner (1)
-
“THz-emission probe of surface-electronic transitions in a topological insulator”
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