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J-GLOBAL ID:201603018742431905

還元剤およびそれを用いた金属の製造方法

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Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (5): 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  関根 宣夫 ,  堂垣 泰雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2014266775
Publication number (International publication number):2016124824
Application date: Dec. 26, 2014
Publication date: Jul. 11, 2016
Summary:
【課題】溶媒中での還元反応によって金属イオンを還元し得る新規な還元剤、および前記の還元剤を用いる金属の製造方法を提供する。【解決手段】下記一般式で示される化合物からなる還元剤、(前記式中、X1およびX2はそれぞれ同一であるか又は異なって窒素原子あるいはメチン基であり、R1、R2、R3、R4、R5およびR6はそれぞれ同一であるか又は異なって水素原子、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基又はtert-ブチル基である。)および前記還元剤と金属イオン源とを溶媒中で接触させる金属の製造方法。【選択図】なし
Claim (excerpt):
下記一般式で示される化合物からなる還元剤。
IPC (2):
C07F 7/10 ,  B22F 9/24
FI (2):
C07F7/10 T ,  B22F9/24 Z
F-Term (17):
4H049VN01 ,  4H049VP02 ,  4H049VQ59 ,  4H049VR23 ,  4H049VR51 ,  4H049VU32 ,  4H049VW02 ,  4K017AA02 ,  4K017BA02 ,  4K017BA03 ,  4K017BA05 ,  4K017BA06 ,  4K017BA10 ,  4K017EJ01 ,  4K017EJ02 ,  4K017FB03 ,  4K017FB08
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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