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J-GLOBAL ID：201702237358412714   Reference number：17A1220563

Effect of N₂O-doped buffer layer on the optical properties of ZnO films grown on glass substrates using high-energy H₂O generated by catalytic reaction

触媒反応により生成した高エネルギーH₂Oを用いてガラス基板上に成長させたZnO膜の光学的性質に及ぼすN₂Oドープしたバッファ層の影響

Author (7)： KANAUCHI Shingo (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN) ,  OHASHI Yuki (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN) ,  OHISHI Koichiro (Nagaoka Coll., Niigata, JPN) ,  KATAGIRI Hironori (Nagaoka Coll., Niigata, JPN) ,  TAMAYAMA Yasuhiro (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN) ,  KATO Takahiro (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN) ,  YASUI Kanji (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 55  Issue： 2S  Page： 02BC14.1-02BC14.4  Publication year： Feb. 2016 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *zinc oxide ,  *thin film growth ,  semiconductor material ,  semiconductor thin film ,  nitrogen oxide ,  buffer layer ,  doping ,  *catalytic reaction ,  crystal growth ,  chemical vapor deposition ,  transmissivity ,  light transmission

JST classification (1)： Oxide thin films  (BK14050P)

Reference (35)：

• S. Pizzini, N. Butta, D. Narducci, and M. Palladino, J. Electrochem. Soc. 136, 1945 (1989).
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• A. Tsukazaki, A. Ohtomo, T. Onuma, M. Ohtani, T. Makino, M. Sumiya, K. Ohtani, S. F. Chichibu, S. Fuke, Y. Segawa, H. Ohno, H. Koinuma, and M. Kawasaki, Nat. Mater. 4, 42 (2005).
• T. Minami, H. Sato, H. Nanto, and S. Takata, Jpn. J. Appl. Phys. 24, L781 (1985).

Terms in the title (10)： 触媒反応 ,  高エネルギー ,  H2O ,  ガラス基板 ,  成長 ,  ZnO ,  光学的性質 ,  N2O ,  ドープ ,  バッファ層