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J-GLOBAL ID：201702261232919478   Reference number：17A0865342

In-situ Monitoring of TMAH Developer Intrusion into Resist Film by C-V Method

C-V法によるレジスト膜へのTMAH現像剤侵入のin-situ監視

Author (2)： Shirataki Hodaka (Department of Electrical Engineering, Nagaoka University of Technology) ,  Kawai Akira (Department of Electrical Engineering, Nagaoka University of Technology)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 29  Issue： 6  Page： 817-822(J-STAGE)  Publication year： 2016 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *chemical vapor deposition ,  material ,  *solid state device ,  novolak ,  insulating film ,  measurement ,  developer (photography) ,  electrical measurement ,  MIS structure ,  refractive index ,  diffusion coefficient ,  in situ measurement ,  capacitance measurement
Semi thesaurus term： resist material ,  *solid state device ,  in situ measurement ,  capacitance measurement

Author keywords (10)： liquid intrusion ,  TMAH developer ,  photoresist ,  MIS structure ,  C-V curve ,  dielectric constant ,  refractive index ,  contact angle ,  spreading coefficient ,  in-situ monitoring

JST classification (2)： Vapor plating  (WC08022K) ,  Solic-state devices in general  (NC03010Z)

Reference (22)：

• 1. K. Itoh, K. Kasama, K. Yamanaka, T. Ohfuji, H. Nose, NEC Res. Develop., 33 (1992) 15.
• 2. D. Ralph, R. Arnost, Polymeric Mater. Sci. Eng., 68 (1993).
• 3. J. Ngunjiri, G. Meyers, J. Cameron, Y. Suzuki, H. Jeon, D. Lee, K. Mo Choi, J. W. Kim, K. Im, H. Lim, Proc. SPIE, 9779 (2016) 97790W.
• 4. A. Kawai, J. Photopolym. Sci. Technol., 17 (2004) 441.
• 5. A. Kawai, H. Nagata, M. Takata, Jpn. J. Appl. Phys., 31 (1992) 3725.

Terms in the title (4)： レジスト膜 ,  TMAH ,  現像剤 ,  侵入