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J-GLOBAL ID：201702287881668262   Reference number：17A1220561

H₂O beams for zinc oxide film growth produced by a Pt-catalyzed H₂-O₂ reaction at various divergent aperture angles of a de Laval nozzle

様々な発散角のde LavalノズルでPt触媒を用いたH₂-O₂反応で作製する酸化亜鉛膜成長用のH₂Oビーム

Author (7)： TERAGUCHI Yusuke (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN) ,  ISHIDZUKA Yuki (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN) ,  NAKAMURA Tomoki (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN) ,  TAKAHASHI Kazumasa (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN) ,  TAMAYAMA Yasuhiro (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN) ,  HARADA Nobuhiro (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN) ,  YASUI Kanji (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 55  Issue： 2S  Page： 02BC12.1-02BC12.4  Publication year： Feb. 2016 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： nozzle ,  platinum catalyst ,  hydrogen ,  oxygen ,  *zinc oxide ,  semiconductor thin film ,  *thin film growth ,  theory ,  nano particle ,  catalytic reaction ,  water vapor ,  temperature distribution ,  cluster ,  chemical vapor deposition ,  *beam
Semi thesaurus term： de Lavalノズル ,  *水ビーム ,  flow theory

JST classification (1)： Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I)

Reference (33)：

• S. Pizzini, N. Butta, D. Narducci, and M. Palladino, J. Electrochem. Soc. 136, 1945 (1989).
• I. S. Jeong, J. H. Kim, and S. Im, Appl. Phys. Lett. 83, 2946 (2003).
• P. Fons, K. Iwata, S. Niki, A. Yamada, and K. Matsubara, J. Cryst. Growth 201-202, 627 (1999).
• A. Tsukazaki, A. Ohtomo, T. Onuma, M. Ohtani, T. Makin, M. Sumiya, K. Ohtani, S. F. Chichibu, S. Fuke, Y. Segawa, H. Ohno, H. Koinuma, and M. Kawasaki, Nat. Mater. 4, 42 (2005).
• T. Minami, H. Sato, H. Nanto, and S. Takata, Jpn. J. Appl. Phys. 24, L781 (1985).

Terms in the title (10)： 発散 ,  Lavalノズル ,  Pt触媒 ,  H2 ,  O2 ,  作製 ,  酸化亜鉛 ,  膜成長 ,  H2O ,  ビーム