質量分析装置、イオン照射装置

Inventor： , , , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (2)：堀城之 , 前島幸彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2015109624
Publication number (International publication number)：2016225108
Application date： May. 29, 2015
Publication date： Dec. 28, 2016
Summary：

【課題】分析対象となる試料の状態によらず、高精度の質量分析を行う。【解決手段】この質量分析装置1は、試料100中の原子のイオン化及び加速を行う高エネルギーイオン発生部2と、このイオンを質量電荷比毎に分離するイオン分離部3を具備する。高エネルギーイオン発生部2において、試料100のイオン化及び加速に用いられるパルスレーザー光200は、レーザー発振器10で生成される。この場合の試料100表面におけるパルスレーザー光200の電界強度は、100TV/m程度と極端に高いため、試料100中の原子をイオン化してイオンを生成する際に、その価数を大きく(価数>>1)とすることができる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

試料の原子をイオン化して加速し、加速後のイオンを磁場下においてを質量電荷比に応じて分離する質量分析装置であって、パルスレーザー光を前記試料に照射して前記試料をプラズマ化し、当該プラズマ中に同時に生成された加速場を利用して前記プラズマ中のイオンを加速する高エネルギーイオン発生部と、前記高エネルギーイオン発生部を用いて加速された前記イオンに電場及び/又は磁場を印加し、前記イオンの前記電場及び/又は磁場中における質量電荷比に応じた軌道の違いによって前記イオンを前記質量電荷比に応じて分離するイオン分離部と、を具備することを特徴とする質量分析装置。

IPC (5)：

H01J 49/16 , H01J 49/06 , H01J 49/04 , H01J 37/30 , G01N 27/62

FI (5)：

H01J49/16 , H01J49/06 , H01J49/04 , H01J37/30 Z , G01N27/62 G

F-Term (8)：

2G041CA01 , 2G041DA03 , 2G041GA13 , 5C034AA01 , 5C038EF29 , 5C038EF33 , 5C038FF13 , 5C038GG07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

粒子分布の評価方法および装置、レーザープロファイルの測定方法および装置、粒子採取方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-004755 Applicant：財団法人電力中央研究所
特開平3-171544
イオン照射装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2013-153112 Applicant：株式会社東芝

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