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J-GLOBAL ID：201802223682515100   Reference number：18A2209512

Thermal stability of silicon and nitrogen doped DLC thin films

ケイ素及び窒素を添加したDLC薄膜の熱的安定性

Author (8)： NAKAZAWA HIDEKI (弘前大 大学院理工学研究科) ,  NAKAMURA KAZUKI (弘前大 大学院理工学研究科) ,  OSANAI HIROYA (弘前大 大学院理工学研究科) ,  KOORIYAMA HARUTO (弘前大 大学院理工学研究科) ,  KOBAYASHI YASUYUKI (弘前大 大学院理工学研究科) ,  ENTA YOSHIHARU (弘前大 大学院理工学研究科) ,  SUZUKI YUUSHI (弘前大 大学院理工学研究科) ,  SUEMITSU MAKI (東北大 電通研)
Material： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
Volume： 118  Issue： 276(CPM2018 41-53)  Page： 99-104  Publication year： Oct. 25, 2018 
JST Material Number： S0532B  ISSN： 0913-5685  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *DLC film ,  *thermal stability ,  *doping ,  silicon ,  nitrogen ,  plasma CVD ,  clustering ,  Raman spectroscopy ,  temperature dependence ,  stretching vibration(molecule) ,  X-ray photoelectron spectroscopy ,  diamond-like carbon
Semi thesaurus term： DLC (carbon)

JST classification (1)： Semiconductor thin films  (BK14040E)

Reference (10)：

• Z.-C. Hong and S.-T. Shiue, Thin Solid Films, Effects of annealing temperature on characteristics of amorphous nickel carbon thin film alloys deposited on n-type silicon substrates by reactive sputtering, vol.618, Part A, pp.21-27, 2016.
• S. Nakao, T. Kimura, T. Suyama, and K. Azuma, Conductive diamond-like carbon films prepared by high power pulsed magnetron sputtering with bipolar type plasma based ion implantation, Diamond Relat. Mater., vol.77, pp.122-130, 2017.
• A. Shimizu and M. Kawaguchi, The effect of heat treatment on the hydrogen content of DLC films, Bulletin of Tokyo Metropolitan Industrial Technology Research Institute, no.9, pp.68-69, 2014.
• T.I.T. Okpalugo, P.D. Maguire, A.A. Ogwu, and J.A.D. McLaughlin, The effect of silicon doping and thermal annealing on the electrical and structural properties of hydrogenated amorphous carbon thin films, Diamond Relat. Mater., vol.13, no.4-8, pp.1549-1552, 2004.
• S.S. Camargo, Jr, A.L. Baia Neto, R.A. Santos, F.L. Freire, Jr, R. Carius, F. Finger, Improved high-temperature stability of Si incorporated a-C:H films, Diamond Relat. Mater. vol.7, no.8, pp.1155-1162, 1998.

Terms in the title (4)： ケイ素 ,  窒素 ,  DLC薄膜 ,  熱的安定性