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J-GLOBAL ID:201803001494049130

中空糸膜装置の洗浄方法、限外ろ過膜装置、超純水製造装置及び中空糸膜装置の洗浄装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 宮崎 昭夫 ,  緒方 雅昭
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2017044837
Publication number (International publication number):2018144014
Application date: Mar. 09, 2017
Publication date: Sep. 20, 2018
Summary:
【課題】超純水製造装置の立ち上げ時間への影響を抑えながら微粒子を効率的に除去する。【解決手段】中空糸膜装置の洗浄方法は、超純水製造装置に設置される前の中空糸膜装置10を、超純水製造装置と異なる洗浄装置21において、アルカリ性水溶液で洗浄することを有する。【選択図】図3
Claim (excerpt):
超純水製造装置に設置される前の中空糸膜装置を、前記超純水製造装置と異なる洗浄装置において、アルカリ性水溶液で洗浄することを有する、中空糸膜装置の洗浄方法。
IPC (6):
B01D 65/06 ,  B01D 63/02 ,  C02F 1/44 ,  C02F 1/42 ,  B01D 61/14 ,  B01D 61/18
FI (6):
B01D65/06 ,  B01D63/02 ,  C02F1/44 J ,  C02F1/42 A ,  B01D61/14 500 ,  B01D61/18
F-Term (31):
4D006GA06 ,  4D006HA19 ,  4D006JA15Z ,  4D006JA19Z ,  4D006JA55Z ,  4D006JA63Z ,  4D006KA01 ,  4D006KB04 ,  4D006KB11 ,  4D006KB17 ,  4D006KB30 ,  4D006KC07 ,  4D006KC16 ,  4D006KD17 ,  4D006KD30 ,  4D006KE11Q ,  4D006KE15Q ,  4D006KE30R ,  4D006MA01 ,  4D006MC62 ,  4D006PA01 ,  4D006PB02 ,  4D006PB70 ,  4D006PC02 ,  4D025AA04 ,  4D025BA08 ,  4D025BB01 ,  4D025DA01 ,  4D025DA04 ,  4D025DA05 ,  4D025DA10
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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