プラズマ生成装置及びこれを用いたプラズマ生成方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：植木久一 , 植木久彦 , 菅河忠志 , 伊藤浩彰
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2017068320
Publication number (International publication number)：2018170216
Application date： Mar. 30, 2017
Publication date： Nov. 01, 2018
Summary：

【課題】高密度かつ長尺なプラズマジェットを生成することができる装置を提供する。【解決手段】本発明のプラズマ生成装置1は、先端と後端を有しており、先端側からプラズマを噴出させるための管状体2と、管状体2に接続されて、管状体2内に媒質ガスを供給するガス供給部と、管状体2の外表面に設けられ、接地電位を含む定電位に接続されている第1電極11と、管状体2の外表面であって第1電極11の後端よりも後方に設けられ、100kHz以上の高周波電位が印加される第2電極12と、を有し、管状体2の長軸方向において、第1電極11の長さL1が第2電極12の長さL2よりも短いものである。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

先端と後端を有しており、前記先端側からプラズマを噴出させるための管状体と、前記管状体に接続されて、前記管状体内に媒質ガスを供給するガス供給部と、前記管状体の外表面に設けられ、接地電位を含む定電位に接続されている第1電極と、前記管状体の外表面であって前記第1電極の後端よりも後方に設けられ、100kHz以上の高周波電位が印加される第2電極と、を有し、前記管状体の長軸方向において、前記第1電極の長さL1が前記第2電極の長さL2よりも短いことを特徴とするプラズマ生成装置。

IPC (1)：

H05H 1/26

FI (1)：

H05H1/26

F-Term (29)：

2G084AA07 , 2G084AA24 , 2G084BB01 , 2G084BB02 , 2G084BB06 , 2G084BB07 , 2G084CC02 , 2G084CC03 , 2G084CC04 , 2G084CC05 , 2G084CC06 , 2G084CC08 , 2G084CC19 , 2G084CC20 , 2G084CC25 , 2G084CC34 , 2G084DD01 , 2G084DD17 , 2G084DD22 , 2G084DD68 , 2G084FF02 , 2G084GG02 , 2G084GG07 , 2G084GG11 , 2G084HH02 , 2G084HH16 , 2G084HH19 , 2G084HH34 , 2G084HH42

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

絶縁部材の表面処理方法及び絶縁部材の表面処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-331627 Applicant：松下電工株式会社
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-109253 Applicant：松下電工株式会社
大気プラズマジェットの生成方法及び大気プラズマミニトーチ装置
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2016-529887 Applicant：ナディルエス.アール.エル.

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