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J-GLOBAL ID：202003006685812853 プラズマジェット生成装置およびプラズマジェット生成方法
金 賢夏
,
, About 金 賢夏
寺本 慶之
, About 寺本 慶之
Applicant, Patent owner：
国立研究開発法人産業技術総合研究所
About 国立研究開発法人産業技術総合研究所
Agent (3)： 西澤 和純 , 大槻 真紀子 , 大浪 一徳
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2018201948
Publication number (International publication number)：2020068180
Application date： Oct. 26, 2018
Publication date： Apr. 30, 2020
Summary：
【課題】任意の大きさの低温プラズマジェットを安定して生成することを可能とする、プラズマジェット生成装置およびプラズマジェット生成方法をを提供する。【解決手段】本発明のプラズマジェット生成装置100は、ガス流路となる細孔を複数備えた通気性誘電体部材101と、通気性誘電体部材101の少なくとも一部を内包する絶縁体チューブ102と、通気性誘電体部材101の少なくとも一部に電場を発生させる電極と、を有し、絶縁体チューブ102に、通気性誘電体部材101の延在方向に希ガスを含むガスを流すガス供給口が設けられ、通気性誘電体部材101のガス流路の出口側にプラズマジェットの放出口が設けられ、通気性誘電体部材101のガス流路に希ガスを含むガスを流しながら、2つの電極間にプラズマ発生のための電圧を印加し、プラズマジェット放出口からプラズマジェット放出するように構成される。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
ガス流路となる細孔を複数備えた通気性誘電体部材と、
前記通気性誘電体部材の少なくとも一部を内包する絶縁体チューブと、
前記通気性誘電体部材の少なくとも一部に電場を発生させる電極と、を有し、
前記絶縁体チューブに、
前記通気性誘電体部材の延在方向において希ガスを含むガスを流すためのガス供給口が設けられ、前記通気性誘電体部材のガス流路の出口側にプラズマジェットの放出口が設けられ、
前記通気性誘電体部材のガス流路に希ガスを含むガスを流しながら、2つの前記電極間にプラズマ発生のための電圧を印加し、前記プラズマジェット放出口からプラズマジェット放出されるように構成されていることを特徴とするプラズマジェット生成装置。
IPC (1)： FI (1)：
F-Term (19)：
2G084AA01
, 2G084AA24
, 2G084AA25
, 2G084BB01
, 2G084BB05
, 2G084CC03
, 2G084CC04
, 2G084CC08
, 2G084CC11
, 2G084CC32
, 2G084DD01
, 2G084DD12
, 2G084DD17
, 2G084FF02
, 2G084FF14
, 2G084FF39
, 2G084GG02
, 2G084GG07
, 2G084GG22
Patent cited by the Patent： Cited by examiner (5)
- プラズマ適用のためのシステムおよび方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2012-513022 Applicant：コロラドステートユニバーシティーリサーチファウンデーション - プラズマ処理装置、プラズマ生成用の反応器の製造方法、及びプラズマ処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-155209 Applicant：松下電工株式会社 - プラズマ反応器及び空気浄化装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-030876 Applicant：ダイキン工業株式会社
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