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J-GLOBAL ID:202203014151418634
ダイヤモンドを合成する方法及びプラズマ処理装置
Inventor:
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (3):
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
, 速水 進治
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2016221524
Publication number (International publication number):2018080352
Patent number:7111299
Application date: Nov. 14, 2016
Publication date: May. 24, 2018
Claim (excerpt):
【請求項1】 NV中心を有するダイヤモンドを合成する方法であって、 発振器からマイクロ波を発生させること; 前記発振器から発生した前記マイクロ波をソリッドステートパワーアンプによって増幅すること; 処理室に水素含有ガス、炭素含有ガス、及び窒素含有ガスを供給し、前記ソリッドステートパワーアンプから出力された前記マイクロ波を前記処理室に送ること;を含み、前記マイクロ波が前記ソリッドステートパワーアンプによって増幅されていることによって、前記マイクロ波に含まれる所定のキャリア周波数成分の強度に比べて前記キャリア周波数以外の周波数成分の強度が抑制されていることにより、 前記処理室内で、前記キャリア周波数成分による前記炭素含有ガスのラジカル化を促進しつつ、前記キャリア周波数以外の周波数成分による前記水素含有ガスのラジカル化を抑制すること、を特徴とする方法。
IPC (4):
C23C 16/27 ( 200 6.01)
, H05H 1/46 ( 200 6.01)
, C23C 16/511 ( 200 6.01)
, H01L 21/205 ( 200 6.01)
FI (4):
C23C 16/27
, H05H 1/46 B
, C23C 16/511
, H01L 21/205
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (8)
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電力合成器およびマイクロ波導入機構
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2008-072192
Applicant:東京エレクトロン株式会社
-
成膜装置用高周波電力供給装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-175020
Applicant:三菱重工業株式会社
-
ダイヤモンドNV光学中心を有するダイヤモンド単結晶
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2013-040653
Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所
-
特開平1-297141
-
プラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-288769
Applicant:東京エレクトロン株式会社, 長野日本無線株式会社
-
特開平2-209484
-
プラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2013-000778
Applicant:株式会社日立ハイテクノロジーズ
-
合成ダイヤモンド材料を製造するマイクロ波プラズマ反応器
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2016-573532
Applicant:エレメントシックステクノロジーズリミテッド
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Cited by examiner (9)
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電力合成器およびマイクロ波導入機構
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2008-072192
Applicant:東京エレクトロン株式会社
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成膜装置用高周波電力供給装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-175020
Applicant:三菱重工業株式会社
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ダイヤモンドNV光学中心を有するダイヤモンド単結晶
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2013-040653
Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所
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特開平1-297141
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特開平1-297141
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プラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-288769
Applicant:東京エレクトロン株式会社, 長野日本無線株式会社
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特開平2-209484
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プラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2013-000778
Applicant:株式会社日立ハイテクノロジーズ
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合成ダイヤモンド材料を製造するマイクロ波プラズマ反応器
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2016-573532
Applicant:エレメントシックステクノロジーズリミテッド
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