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J-GLOBAL ID：200902216150337172   整理番号：05A0536757

システインおよびホモシステイン単分子膜修飾金電極におけるDOPAの酸化還元挙動の比較

著者 (5件)： 松永真理子 ,  中西卓也 ,  長坂誠 ,  朝日透 ,  逢坂哲弥
資料名： 電気化学会大会講演要旨集
巻： 72nd  ページ： 54  発行年： 2005年04月01日 
JST資料番号： Y0048A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *化学修飾電極 ,...

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分類 (2件)： 電極過程  (CB07040U) ,  光化学反応,ラジカル反応  (CF02090A)

物質索引 (4件)： 3,4-ジヒドロキシフェニルアラニン ,  システイン ,  ホモシステイン ,  シスチン

タイトルに関連する用語 (7件)： システイン ,  ホモシステイン ,  単分子膜 ,  修飾 ,  金電極 ,  DOPA ,  酸化還元挙動