特許

J-GLOBAL ID：201103021103873984

防食性に優れた機能性被覆の形成法

発明者： 賞雅 寛而 ,  波津久 達也 ,  関村 直人 ,  岡本 孝司 ,  阿部 弘亨 ,  三島 嘉一郎 ,  中村 秀夫 ,  柴本 泰照 ,  植松 進 ,  古谷 正裕 ,  小野 昇一 ,  師岡 慎一 ,  秋葉 美幸 ,  鹿野 文寿 ,  安永 龍哉 ,  藤沢 匡介 ,  千草 剛 ,  下条 純
出願人/特許権者： 国立大学法人東京海洋大学 ,  国立大学法人 東京大学 ,  独立行政法人 日本原子力研究開発機構 ,  独立行政法人海上技術安全研究所 ,  財団法人電力中央研究所 ,  株式会社東芝 ,  株式会社神戸製鋼所
代理人 (4件)： 植木 久一 ,  菅河 忠志 ,  二口 治 ,  伊藤 浩彰
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-042377
公開番号（公開出願番号）：特開2006-226898
特許番号：特許第4604153号
出願日： 2005年02月18日
公開日（公表日）： 2006年08月31日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 放射線照射雰囲気に曝される金属構造物を構成する基材の一部または全部に、放射線照射により腐食電位低下による防食効果を示す機能性被覆をプラズマ照射によって形成するに当たり、溶射すべき方向に伸びるプラズマ軸線の上流側に原料粉末投入口を備え、該軸線の周囲に等間隔で複数の溶射ガンが配置され、且つ各溶射ガンから投射されるプラズマが1点に収斂する様に配置された多電極プラズマ収斂型溶射装置を使用し、平均粒径が5〜10μmのセラミック粉末を溶射することを特徴とする、防食性に優れた機能性被覆の形成法。

IPC (4件)：

G21D 1/00 ( 200 6.01) ,  C23C 4/10 ( 200 6.01) ,  C23C 4/12 ( 200 6.01) ,  G21C 19/307 ( 200 6.01)

FI (4件)：

G21D 1/00 X ,  C23C 4/10 ,  C23C 4/12 ,  G21C 19/30 L

引用特許：

審査官引用 (8件)

• 防食用チタン酸化膜の作製方法および防食用チタン酸化膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-284416   出願人：石川島播磨重工業株式会社
• 特開平2-236999
  
• 特開昭61-230300
  
• 特公昭51-007556
  
• プラズマジェットを発生しかつ偏向するための装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平9-542975   出願人：アイペック・プリシジョン・インコーポレーテッド
• 防食用チタン酸化膜の作製方法および防食用チタン酸化膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-290889   出願人：石川島播磨重工業株式会社
• チタン酸化膜の作製方法およびチタン酸化膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-231580   出願人：石川島播磨重工業株式会社
• 原子炉構造材及びその防食方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-012056   出願人：石川島播磨重工業株式会社