文献

J-GLOBAL ID：201202210545004153   整理番号：12A1737560

低エネルギーイオンビーム照射によるPMMAエッチングイールドへの紫外線照射および水素プラズマ暴露の影響

クリップ

著者 (6件)： 幾世和将 (大阪大 大学院工学研究科) ,  吉村智 (大阪大 大学院工学研究科) ,  杉本敏司 (大阪大 大学院工学研究科) ,  木内正人 (大阪大 大学院工学研究科) ,  木内正人 (産業技術総合研) ,  浜口智志 (大阪大 大学院工学研究科)
資料名： 真空に関する連合講演会講演予稿集
巻： 53rd  ページ： 43  発行年： 2012年11月14日 
JST資料番号： L1308A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *半導体素子 ,  *イオン ,  イオン照射 ,  *ポリメタクリル酸メチル ,  *イオンエッチング ,  *紫外線照射 ,  *プラズマ ,  *プラズマ曝露 ,  エネルギー依存性 ,  *水素プラズマ ,  *低エネルギーイオン
準シソーラス用語： *イオンビームエッチング ,  イオンビーム照射 ,  デバイス特性

分類 (2件)： 発光素子  (NC03082G) ,  電子ビーム・イオンビームの応用  (BD02070X)

タイトルに関連する用語 (6件)： 低エネルギー ,  イオンビーム照射 ,  PMMA ,  紫外線照射 ,  水素プラズマ ,  暴露