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文献
J-GLOBAL ID：201202236598867365
整理番号：12A1437133 希ガスイオン照射による水酸化マグネシウムのスパッタ率測定
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幾世和将
(大阪大 工)
, 吉村智
(大阪大 工)
, 木内正人
(大阪大 工)
, 木内正人
(産業技術総合研)
, 寺内正治
(パナソニック)
, 西谷幹彦
(大阪大 工)
, 西谷幹彦
(パナソニック)
, 浜口智志
(大阪大 工)
資料名：
応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)
(Extended Abstracts of the Meeting. Japan Society of Applied Physics (CD-ROM))
応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM) について
巻： 73rd ページ： ROMBUNNO.13P-E2-13 発行年： 2012年08月27日
JST資料番号： Y0055B 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
シソーラス用語：
準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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イオン照射
, イオン照射 について
*イオンビームスパッタリング
, イオンビームスパッタリング について
*水酸化マグネシウム
, 水酸化マグネシウム について
パネル
, パネル について
保護膜
, 保護膜 について
ヘリウム
, ヘリウム について
ネオン
, ネオン について
クリプトン
, クリプトン について
キセノン
, キセノン について
膜厚
膜厚 について
準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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イオンビームスパッタ
, イオンビームスパッタ について
プラズマディスプレイパネル
プラズマディスプレイパネル について
分類 (1件)：
分類
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スパッタリング
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(BK16110U)
スパッタリング について
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希ガス
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イオン照射
, イオン照射 について
水酸化マグネシウム
, 水酸化マグネシウム について
スパッタ
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