文献

J-GLOBAL ID：201702234650366705   整理番号：17A1141885

プラズマ支援パルスDCマグネトロンスパッタリングによる結晶化窒化アルミニウム薄膜の低温形成

クリップ

著者 (4件)： 竹中弘祐 (阪大 接合研) ,  佐竹義旦 (阪大 接合研) ,  内田儀一郎 (阪大 接合研) ,  節原裕一 (阪大 接合研)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 78th  ページ： ROMBUNNO.8a-PB4-18  発行年： 2017年08月25日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *プラズマ ,  *マグネトロンスパッタリング ,  *スパッタ蒸着 ,  *窒化アルミニウム ,  結晶化 ,  *半導体薄膜 ,  稼働率
準シソーラス用語： デューティサイクル ,  プラズマ支援スパッタリング

分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (8件)： プラズマ ,  支援 ,  パルス ,  DCマグネトロンスパッタリング ,  結晶化 ,  窒化アルミニウム ,  薄膜 ,  低温形成