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J-GLOBAL ID：201802276870451758   整理番号：18A2145701

脱水素メンブレンリアクター用ハイシリカCHA膜の開発

著者 (4件)： 堺なな子 (早大 先進理工) ,  酒井求 (早稲田大) ,  松方正彦 (早大 先進理工) ,  松方正彦 (早大 理工総研)
資料名： 膜シンポジウム  (膜シンポジウム要旨集)
号： 30  ページ： 110  発行年： 2018年11月01日 
JST資料番号： L2226A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 脱水素 ,  *膜反応器 ,  *薄膜 ,  細孔径 ,  *膜分離 ,  二酸化ケイ素 ,  種結晶 ,  水素 ,  *ガス分離 ,  *ゼオライト膜 ,  アルカン

分類 (1件)： 膜分離  (XD02120Z)

物質索引 (2件)： プロパン ,  イソブタン

タイトルに関連する用語 (6件)： 脱水素 ,  メンブレン ,  リアクター ,  シリカ ,  CHA ,  開発