散乱型近接場顕微鏡用プローブの製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：川口嘉之 , 松倉秀実 , 和久田純一 , 遠山勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-332023
公開番号（公開出願番号）：特開2009-156601
出願日： 2007年12月25日
公開日（公表日）： 2009年07月16日
要約：

【課題】シリコン以外の材質のプローブを、シリコンと同様に加工性良く製造する。【解決手段】シリコン製のプローブを用意し、これに1100°Cの蒸気雰囲気下で熱酸化処理を施すことで、プローブをSiO2に変質させる。これによって、シリコンを加工したときの形状を保ったまま、SiO2とすることができるので、先端が尖鋭なSiO2製のプローブを得ることができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：