特許
J-GLOBAL ID：200903084392623137

近接場顕微鏡用プローブおよびその製造方法ならびにそのプローブを用いた走査型プローブ顕微鏡

発明者：
齊藤 結花

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村上 貴

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河田 聡

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井上 康志

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塚越 一仁

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伊與木 誠

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出願人/特許権者：
エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社

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独立行政法人理化学研究所

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代理人 (1件)： 松下 義治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-255133
公開番号（公開出願番号）：特開2006-071448
出願日： 2004年09月02日
公開日（公表日）： 2006年03月16日
要約：
【課題】 散乱型近接場顕微鏡用のプローブ作製において、表面増強ラマン散乱を効率良く誘起する均一な金属粒子を、再現性よくコーティングする方法を提供する。【解決手段】 散乱型近接場用プローブ1において、少なくともエバネッセント場の相互作用に起因するプローブの一部または全部が、互いに癒着することのない曲率半径10nm以上50nm以下の粒径を持つ金属7でコーティングされるようにした。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
サンプル表面に発生させたエバネッセント場にプローブを挿入し、プローブ先端でエバネッセント場を散乱させて散乱光を検出する近接場顕微鏡において、 少なくともエバネッセント場の相互作用に起因するプローブの一部または全部が、互いに癒着することのない曲率半径10nm以上50nm以下の粒径を持つ金属でコーティングされた近接場顕微鏡用プローブ。
IPC (3件)：
G01N 13/14 ,  G01N 21/27 ,  G12B 21/06
FI (3件)：
G01N13/14 B ,  G01N21/27 C ,  G12B1/00 601C
Fターム (16件)：
2G043AA03 ,  2G043CA05 ,  2G043EA03 ,  2G043GA04 ,  2G043GB02 ,  2G043HA01 ,  2G043KA09 ,  2G043LA03 ,  2G043MA01 ,  2G059AA02 ,  2G059BB20 ,  2G059EE03 ,  2G059GG01 ,  2G059JJ11 ,  2G059KK04 ,  2G059NN01
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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引用文献：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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