文献

J-GLOBAL ID：200902155276827842   整理番号：96A0039009

RF SiH₄プラズマ中の電子密度・温度に対する希釈ガスXe,Ar,He,H₂の効果

The effect of dilution gas Xe,Ar,He and H₂ on electron density and temperature in RF SiH₄ plasma.

著者 (3件)： 野村秀次 (名古屋大) ,  河野明広 (名古屋大) ,  後藤俊夫 (名古屋大)
資料名： 電気学会プラズマ研究会資料  (電気学会研究会資料)
巻： EP-95  号： 107-128  ページ： 41-49  発行年： 1995年11月27日 
JST資料番号： Z0951A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 希釈ガスとしてXe,Ar,He,H2を用いた混合ガスSiH4...

シソーラス用語： プラズマ ,...

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分類 (2件)： プラズマ診断  (BJ02090L) ,  気体放電  (BJ03020T)

引用文献 (9件)：

• NOMURA, H. Jpn. J. Appl. Phys. 1994, 33, 4165
• KONO, A. Jpn. J. Appl. Phys. 1995, 34, 307
• FLEDDERMANN, C. B. J. Appl. Phys. 1985, 58, 1344
• SHIRATANI, M. Jpn. J. Appl. Phys. 1992, 31, L1791
• KONO, A. J. Appl. Phys. 1994, 76, 7221

タイトルに関連する用語 (9件)： RF ,  SiH4 ,  プラズマ ,  電子密度 ,  希釈ガス ,  Xe ,  Ar ,  He ,  H2