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文献
J-GLOBAL ID：200902155276827842
整理番号：96A0039009 RF SiH4プラズマ中の電子密度・温度に対する希釈ガスXe,Ar,He,H2の効果
The effect of dilution gas Xe,Ar,He and H2 on electron density and temperature in RF SiH4 plasma.
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野村秀次
(名古屋大)
, 河野明広
(名古屋大)
, 後藤俊夫
(名古屋大)
資料名：
電気学会プラズマ研究会資料
(電気学会研究会資料)
電気学会プラズマ研究会資料 について
巻： EP-95 号： 107-128 ページ： 41-49 発行年： 1995年11月27日
JST資料番号： Z0951A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 解説 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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希釈ガスとしてXe,Ar,He,H2を用いた混合ガスSiH4...
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シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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プラズマ
,...
プラズマ について
分類 (2件)：
分類
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プラズマ診断
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(BJ02090L)
, 気体放電
プラズマ診断 について
(BJ03020T)
気体放電 について
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希釈ガス
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