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J-GLOBAL ID:201202231856621617   整理番号:12A0543017

多層コーティング法におけるBNスパッタリング特性について

Sputtering Characteristic of BN in Multilayer Coating Method
著者 (7件):
資料名:
巻: 19  号:ページ: 151-154  発行年: 2011年12月 
JST資料番号: L4460A  ISSN: 1340-3214  CODEN: POKAFE  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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ホールスラスタは電気推進の一つであり,比推力1000-3000sの間で推進効率50%以上を達成し,イオンスラスタよりも推力密度が高く,高電圧電源を必要としないことから小型かつ軽量であり,今後の実用化に向けて大きく期待される推進機である。ホールスラスタでは,加速されたイオンは拡散するために壁面衝突による損耗を引き起こす要因となっている。壁面損耗によりチャネル内部のプラズマ状態が変化することで性能低下が懸念される。多層コーティング法は短時問でほぼリアルタイムな測定,壁面損耗の空間分布の測定,壁面損耗の絶対量の測定が可能であり,新たな寿命評価法として期待される。多層コーティング法で用いる成膜BN(窒化ホウ素)とチャネル壁に使用されるBNではその結晶構造に違いがあると予想される。本研究では,多層コーティング法によるより正確な寿命測定のため,通常のBNと成膜BNのスパッタリング特性について実験を行い次のことが示された。1)500eVにおいて成膜BNは通常のBNよりも4.1±0.7倍損耗しやすく,較正は必要である。2)長時間作動により表面粗さによる測定誤差は極力抑えられた。
シソーラス用語:
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分類 (2件):
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宇宙飛行体  ,  電子輸送の一般理論 
引用文献 (12件):
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