膜乳化用多孔質シリカ膜

発明者： , , ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (1件)：喜多俊文
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-387390
公開番号（公開出願番号）：特開2003-181262
特許番号：特許第3876433号
出願日： 2001年12月20日
公開日（公表日）： 2003年07月02日
請求項（抜粋）：

【請求項1】相分離を利用したゾル-ゲル法によって調製された、SiO2を主成分とし、0.6〜20ミクロンのスルーポアと、50ナノメートル以下のメソポアを有する膜乳化用多孔質シリカ膜であって、炭素導入量が3重量パーセント以上である炭素鎖による化学修飾がなされてなる膜乳化用多孔質シリカ膜。

IPC (2件)：