文献
J-GLOBAL ID：201202270422534312
整理番号：12A0589453 分光エリプソメトリによる立方晶InNの光学的特性評価
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吉田倫大
(埼玉大 大学院)
, 折原操
(埼玉大 大学院)
, 八木修平
(埼玉大 大学院)
, 土方泰斗
(埼玉大 大学院)
, 矢口裕之
(埼玉大 大学院)
資料名：
応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)
(Extended Abstracts of the Spring Meeting, Japan Society of Applied Physics and the Related Societies)
応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM) について
巻： 59th ページ： ROMBUNNO.16A-DP1-27 発行年： 2012年02月29日
JST資料番号： Y0054B 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
シソーラス用語：
準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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*窒化インジウム
, 窒化インジウム について
立方晶系
, 立方晶系 について
薄膜成長
, 薄膜成長 について
MBE成長
, MBE成長 について
*酸化マグネシウム
, 酸化マグネシウム について
窒化ガリウム
, 窒化ガリウム について
X線回折
, X線回折 について
屈折率
, 屈折率 について
*光学定数
, 光学定数 について
バンド構造
, バンド構造 について
化合物半導体
, 化合物半導体 について
半導体薄膜
, 半導体薄膜 について
光学遷移
光学遷移 について
準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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消衰係数
, 消衰係数 について
*分光偏光解析
分光偏光解析 について
分類 (2件)：
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
半導体薄膜
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
(BK14040E)
, 光物性一般
半導体薄膜 について
(BM08010A)
光物性一般 について
タイトルに関連する用語 (5件)：
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです
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分光エリプソメトリ
, 分光エリプソメトリ について
立方晶
, 立方晶 について
InN
, InN について
光学的特性
, 光学的特性 について
評価
評価 について
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