特許

J-GLOBAL ID：201603007338765598

欠陥観察方法及びその装置

発明者： 大谷 祐子 ,  前田 俊二 ,  浦野 雄太 ,  本田 敏文 ,  平井 大博 ,  高橋 哲 ,  高増 潔
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ ,  国立大学法人 東京大学
代理人 (1件)： 青稜特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-145199
公開番号（公開出願番号）：特開2016-020867
出願日： 2014年07月15日
公開日（公表日）： 2016年02月04日
要約：

【課題】センサで捕集される欠陥散乱光量を上げるため,照明波長の短波長化や検出レンズの高NA化(NA: Numerical Aperture)などが行われている。しかし,照明波長短波長化には技術,装置コスト的に限界がある。検出レンズの高NA化方法としては,液浸や屈折率が負のメタマテリアルなどがあるが,液浸は半導体検査において使用は難しく、またメタマテリアルは、まだ技術的に実用化は困難である。【解決手段】照射条件または試料の条件または検出条件のうち少なくとも一つの条件のみを変化させた異なる複数の光学条件にて該試料を照射し該試料からの複数の光を検出する光取得ステップと、該検出した複数の光に基づく複数の信号を取得する信号取得ステップと、該複数の信号を用いて作成した波形特徴量または画像特徴量または値特徴量により、欠陥とノイズとを判別し、該欠陥の座標を求める処理ステップと、を備えた欠陥観察方法である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

照射条件または試料の条件または検出条件のうち少なくとも一つの条件のみを変化させた異なる複数の光学条件にて該試料を照射し該試料からの複数の光を検出する光取得ステップと、 該検出した複数の光に基づく複数の信号を取得する信号取得ステップと、 該複数の信号を用いて作成した波形特徴量または画像特徴量または値特徴量により、欠陥とノイズとを判別し、該欠陥の座標を求める処理ステップと、を備えた欠陥観察方法。

IPC (1件)：

G01N 21/956

FI (1件)：

G01N21/956 A

Fターム (16件)：

2G051AA51 ,  2G051AB01 ,  2G051AB02 ,  2G051AC02 ,  2G051BA01 ,  2G051BA10 ,  2G051BA11 ,  2G051BB05 ,  2G051BB07 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051CB05 ,  2G051CC07 ,  2G051EA08 ,  2G051EB05 ,  2G051EC06

引用特許：

出願人引用 (8件)

• 欠陥検査装置およびその方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-115005   出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
• 特許第7184138号
  
• 欠陥観察方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-022941   出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
• 欠陥検出方法及び欠陥検出装置並びにこれを備えた欠陥観察装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-262445   出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
• 欠陥検査方法及び欠陥検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-085167   出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
• 欠陥検査装置及び欠陥検査方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-282074   出願人：株式会社ニコン
• 表面欠陥検査方法およびその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-074012   出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
• 欠陥検査装置及び欠陥検査方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-087100   出願人：ソニー株式会社

審査官引用 (2件)

• 欠陥検査装置およびその方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-115005   出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
• 特許第7184138号