特許
J-GLOBAL ID：201603015797903688
ゼオライトナノチャンネル内への炭素充填
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
八田国際特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-035278
公開番号（公開出願番号）：特開2012-211069
特許番号：特許第5861492号
出願日： 2012年02月21日
公開日（公表日）： 2012年11月01日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 BET比表面積が800m2/g以上で、かつ水素の炭素に対する重量割合(H/C重量比)が1wt%未満である炭素材料の製造方法であって、
多孔質ゼオライト鋳型の表面および細孔内に有機化合物を導入し、前記有機化合物を化学気相成長により炭素化して炭素/ゼオライト複合体を得るステップと、
前記炭素/ゼオライト複合体からゼオライト鋳型を除去するステップとを含み、
前記炭素/ゼオライト複合体を得るため、繰り返し減圧-ガスパルシングサイクルを実施するプレッシャーパルスCVD法を用いる炭素材料の製造方法。
IPC (5件)：
C01B 31/02 ( 200 6.01)
, H01M 4/86 ( 200 6.01)
, H01M 4/88 ( 200 6.01)
, H01M 4/587 ( 201 0.01)
, H01G 11/22 ( 201 3.01)
C01B 31/02 101 F
, H01M 4/86 B
, H01M 4/88 C
, H01M 4/587
, H01G 11/22
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (2件)
引用文献：
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