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J-GLOBAL ID:201002283581216810   整理番号:10A0009095

同軸ケーブル型マイクロ波伝送トーチを用いたプラズマ生成時における基板温度変化

Temperature change of substrate with plasma generated by the emission of micro-wave through the coaxial cable torch
著者 (5件):
資料名:
巻: 2009  号: Vol.3  ページ: 45-46  発行年: 2009年09月12日 
JST資料番号: X0587B  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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大気開放中でプラズマを生成可能な同軸ケーブル型マイクロ波トーチを用いて,トーチ先端面と基板との隙間にヒートスポット状の熱源が誘起される場合の基板裏面での温度変化を測定した。熱移動に関する基本的な考察を行い,定常時の温度特性およびプラズマ領域を熱発生の生じているガスの1次元熱伝導体と見なして,実測から得た熱流束を適用しプラズマガス温度の推定を試みた。(著者抄録)
シソーラス用語:
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分類 (2件):
分類
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特殊加工  ,  その他の無機化合物の薄膜 
タイトルに関連する用語 (5件):
タイトルに関連する用語
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