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J-GLOBAL ID:201102260420020343   整理番号:11A0801920

反応性パルスレーザーアブレーション法によるInTaO4系ナノ構造体の作製とその光触媒特性

著者 (6件):
資料名:
巻: 57  号:ページ: 1-15  発行年: 2010年12月25日 
JST資料番号: F0795A  ISSN: 1348-0383  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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あらかじめ組成比を調製して作られた多元系酸化物焼結体を目的として,反応性PLA法を用いて,主触媒InTaO4系ナノ構造体を作製しようとした。反応性PLA法における雰囲気ガス(全圧力,分圧)を主なパラメーターとし,可視光応答型光触媒機能の向上を期待できる条件を検討した。全圧を変化させると膜からナノ構造体に変化し,酸素欠損の補償された半導体吸収に変化した。光触媒機能の評価を行い,メチレンブルー色素が分解されていることから光触媒機能を確認した。PLAを用いて全圧1.00Torr以上,酸素分圧50%以上で名の構造体を有し,光触媒機能があるIn0.9Ni0.1TaO4を作製できることが明らかとなった。
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分類 (3件):
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触媒の調製  ,  光化学一般  ,  分子の性質一般 
物質索引 (1件):
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