ポジ型感光性樹脂組成物及びパターン製造法

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出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：酒井宏明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-137584
公開番号（公開出願番号）：特開2005-321467
特許番号：特許第4500100号
出願日： 2004年05月06日
公開日（公表日）： 2005年11月17日
請求項（抜粋）：

【請求項1】少なくともポリベンゾオキサゾール前駆体と、放射線照射により酸を発生する化合物とを含有してなるポジ型感光性樹脂組成物であって、前記ポリベンゾオキサゾール前駆体が、その閉環してオキサゾール環を形成する開環構造として分子内水素結合抑止構造を有する構造単位である下記一般式(1) (式中、Rはそれぞれ独立に水素原子又は一価の有機基であり、少なくとも一方はアリール基及びアルキル基から選択される一価の有機基を表し、Xは単結合又は二価の基であり、Yは二価の有機基である。)で表される構造単位を含むとともに、カルボニル基の結合する芳香環のオルト位に置換基を有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。

IPC (3件)：