遠田義晴

エンタヨシハル | Enta Yoshiharu

所属機関・部署：
職名：准教授
ホームページURL (1件)： http://www.st.hirosaki-u.ac.jp/~enta

研究分野 (4件)：薄膜、表面界面物性 , 結晶工学 , 応用物性 , 半導体、光物性、原子物理

競争的資金等の研究課題 (24件)：

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論文 (61件)：

Tatsuya Nishida, Masayoshi Sato, Yoshiharu Enta, Yushi Suzuki, Yasuyuki Kobayashi, Hideki Nakazawa. Photovoltaic and mechanical properties of boron carbide films prepared by magnetron sputtering. Japanese Journal of Applied Physics. 2024. 63. 1. 01SP38-1-01SP38-12
Yuya Sasaki, Hiroya Osanai, Yusuke Ohtani, Yuta Murono, Masayoshi Sato, Yasuyuki Kobayashi, Yoshiharu Enta, Yushi Suzuki, Hideki Nakazawa. Influence of hydrogen gas flow ratio on the properties of silicon- and nitrogen-doped diamond-like carbon films by plasma-enhanced chemical vapor deposition. Diamond and Related Materials. 2022. 108878-108878
K. Nakamura, H. Ohashi, Y. Enta, Y. Kobayashi, Y. Suzuki, M. Suemitsu, H. Nakazawa. Effects of silicon doping on the chemical bonding states and properties of nitrogen-doped diamond-like carbon films by plasma-enhanced chemical vapor deposition. Thin Solid Films. 2021. 736. 138923-138923
Syunki Narita, Yuki Nara, Yoshiharu Enta, Hideki Nakazawa. Growth of 3C-SiC(111) on AlN/off-axis Si(110) hetero-structure and formation of epitaxial graphene thereon. Japanese Journal of Applied Physics. 2019. 58. SI
Yoshiharu Enta, Makoto Wada, Mariko Arita, Takahiro Takami. Effects of temperature and pressure in oxynitridation kinetics on Si(100) with N2O gas. MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING. 2017. 70. 63-67

MISC (62件)：

学歴 (4件)：

学位 (1件)：

経歴 (2件)：

所属学会 (3件)：

放射光学会 , 応用物理学会 , 日本物理学会

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遠田 義晴