窒素を添加したDLC膜特性へのアニール効果

長内公哉; 中村和樹; 郡山春人; 小林康之; 遠田義晴; 鈴木裕史; 末光眞希; 中澤日出樹

文献

J-GLOBAL ID：202002258466080500 整理番号：20A0023765

窒素を添加したDLC膜特性へのアニール効果

Annealing effects on the properties of nitrogen doped DLC films

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資料名：
巻： 119 号： 271(CPM2019 44-51) ページ： 9-14 発行年： 2019年10月31日
JST資料番号： S0532B ISSN： 0913-5685 資料種別：会議録 (C)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

希釈ガスにH₂を用いたプラズマ化学気相成長法により窒素を添加したダイヤモンドライクカーボン(N-DLC)膜を作製し,真空中ポストアニールが膜特性に及ぼす影響について調べた。235~270°Cの真空中ポストアニールによって,光学バンドギャップはわずかに増加した。これは,バンドギャップ中の欠陥準位密度が減少したことを示唆する。一方420~490°Cの真空中ポストアニールによって,光学バンドギャップは減少した。このとき,膜中の結合水素量が減少し,sp²C=Cの増加およびsp²炭素のクラスター化が促進されていることがわかった。N-DLC/p型siヘテロ接合の電流電圧特性を調べた結果,490°Cのアニールを施したN-DLC/p型Siヘテロ接合の整流比が最も大きくなった。(著者抄録)

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半導体薄膜

引用文献 (17件)：

Z.-C. Hong and S.-T. Shiue, Thin Solid Films, Effects of annealing temperature on characteristics of amorphous nickel carbon thin film alloys deposited on n-type silicon substrates by reactive sputtering, vol.618, Part A, pp.21-27, 2016.
S. Nakao, T. Kimura, T. Suyama, and K. Azuma, Conductive diamond-like carbon films prepared by high power pulsed magnetron sputtering with bipolar type plasma based ion implantation, Diamond Relat. Mater., vol.77, pp.122-130, 2017.
A. Shimizu and M. Kawaguchi, The effect of heat treatment on the hydrogen content of DLC films, Bulletin of Tokyo Metropolitan Industrial Technology Research Institute, no.9, pp.68-69, 2014.
M.J. Son, T.F. Zhang, Y.J. Jo, K.H. Kim, Enhanced electrochemical properties of the DLC films with a arc interlayer, nitrogen doping and annealing, Surf. Coat. Technol., vol.329, pp.77-85, 2017.
T.I.T. Okpalugo, P.D. Maguire, A.A. Ogwu, and J.A.D. McLaughlin, The effect of silicon doping and thermal annealing on the electrical and structural properties of hydrogenated amorphous carbon thin films, Diamond Relat. Mater., vol.13, no.4-8, pp.1549-1552, 2004.

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