ケイ素及び窒素を添加したDLC薄膜の熱的安定性

中澤日出樹; 中村和樹; 長内公哉; 郡山春人; 小林康之; 遠田義晴; 鈴木裕史; 末光眞希

文献

J-GLOBAL ID：201802223682515100 整理番号：18A2209512

ケイ素及び窒素を添加したDLC薄膜の熱的安定性

Thermal stability of silicon and nitrogen doped DLC thin films

出版者サイト複写サービスで全文入手 {{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=18A2209512&COPY=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=18A2209512&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=S0532B") }}

著者 (8件)： , , , , , , ,
資料名：
巻： 118 号： 276(CPM2018 41-53) ページ： 99-104 発行年： 2018年10月25日
JST資料番号： S0532B ISSN： 0913-5685 資料種別：会議録 (C)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

希釈ガスにH₂を用いたプラズマ化学気相成長法により作製したケイ素及び窒素を添加したダイヤモンドライクカーボン(Si-N-DLC)の膜特性へのアニール効果を調べ,窒素添加DLC(N-DLC)膜との比較を行った。N-DLC膜では420°C以上の真空中ポストアニールによってsp²炭素のクラスター化が起こるが,Si-N-DLC膜では420°Cのアニールでもクラスター化がほぼ抑制されることがわかった。また,Si-N-DLC膜では420~490°Cのアニール後に結合水素量が明らかに増加した。Si-N-DLC膜の光学ギャップはN-DLC膜よりも大きく,490°Cのアニール後もほとんど変化しなかった。(著者抄録)

, , , , , , , , , , , ,

半導体薄膜

引用文献 (10件)：

Z.-C. Hong and S.-T. Shiue, Thin Solid Films, Effects of annealing temperature on characteristics of amorphous nickel carbon thin film alloys deposited on n-type silicon substrates by reactive sputtering, vol.618, Part A, pp.21-27, 2016.
S. Nakao, T. Kimura, T. Suyama, and K. Azuma, Conductive diamond-like carbon films prepared by high power pulsed magnetron sputtering with bipolar type plasma based ion implantation, Diamond Relat. Mater., vol.77, pp.122-130, 2017.
A. Shimizu and M. Kawaguchi, The effect of heat treatment on the hydrogen content of DLC films, Bulletin of Tokyo Metropolitan Industrial Technology Research Institute, no.9, pp.68-69, 2014.
T.I.T. Okpalugo, P.D. Maguire, A.A. Ogwu, and J.A.D. McLaughlin, The effect of silicon doping and thermal annealing on the electrical and structural properties of hydrogenated amorphous carbon thin films, Diamond Relat. Mater., vol.13, no.4-8, pp.1549-1552, 2004.
S.S. Camargo, Jr, A.L. Baia Neto, R.A. Santos, F.L. Freire, Jr, R. Carius, F. Finger, Improved high-temperature stability of Si incorporated a-C:H films, Diamond Relat. Mater. vol.7, no.8, pp.1155-1162, 1998.

, , ,

前のページに戻る