研究者
J-GLOBAL ID:200901078948030060
更新日: 2020年08月29日
岡本 昭夫
オカモト アキオ | Okamoto Akio
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研究分野 (2件):
電気電子材料工学
, 薄膜、表面界面物性
研究キーワード (2件):
薄膜 スパッタ プラズマ イオンビーム 励起粒子ビーム アシスト成膜
, thin films sputter plasma ion beam excited beam assisted deposition
競争的資金等の研究課題 (5件):
2008 - 2010 高分子フィルム基板のガスバリア性能評価方法の開発
2006 - 2007 高分子材料表面への成膜技術の開発
2004 - 2006 プラズマ成膜法を利用した炭素系複合薄膜による表面高機能化技術の開発と応用
イオン・プラズマを利用した成膜技術の開発
Development of thin film fabrication method using ion and/or plasma.
MISC (8件):
A. Okamoto, T. Nosaka, M. Yoshitake, S. Ogawa. An application of multicapillary excited beam source to fabricate nitrogen-containing carbon thin films. Materials Chemistry and Physics. 1998. 54. 1-3. 251-254
A. Okamoto, T. Nosaka, M. Yoshitake, S. Ogawa. An application of multicapillary excited beam source to fabricate nitrogen-containing carbon thin films. Materials Chemistry and Physics. 1998. 54. 1-3. 251-254
A. Okamoto, Y. Suzuki, M. Yoshitake, S. Ogawa, N. Nakano. Gold-carbon composite thin films for electrochemical gas sensor prepared by reactive plasma sputtering. Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms. 1997. 121. 1-4. 179-183
A. Okamoto, Y. Suzuki, M. Yoshitake, S. Ogawa, N. Nakano. Gold-carbon composite thin films for electrochemical gas sensor prepared by reactive plasma sputtering. Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms. 1997. 121. 1-4. 179-183
Akio Okamoto, Toshikazu Nosaka, Masaaki Yoshitake, Yoshihiko Suzuki, Soichi Ogawa. Structure of gold-hydrocarbon composite thin films deposited using low-voltage plasma sputtering method. Thin Solid Films. 1996. 281-282. 1-2. 390-392
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学歴 (4件):
- 1986 大阪府立大学 工学研究科 電子工学
- 1986 大阪府立大学
- 1984 大阪府立大学 工学部 電子工学科
- 1984 大阪府立大学
学位 (2件):
工学修士 (大阪府立大学)
博士(工学) (大阪府立大学)
受賞 (1件):
第5回真空進歩賞(平成8年)
所属学会 (4件):
日本真空学会
, The Vacuum Society of Japan
, The Surface Science Society of Japan
, The Japan Society of Applied Physics
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