研究者
J-GLOBAL ID:200901036470194904   更新日: 2024年11月19日

櫻庭 政夫

サクラバ マサオ | Sakuraba Masao
所属機関・部署:
職名: 准教授
ホームページURL (1件): http://www5a.biglobe.ne.jp/~tenrou/
研究分野 (4件): 電気電子材料工学 ,  薄膜、表面界面物性 ,  結晶工学 ,  応用物性
研究キーワード (6件): 高集積化プロセス ,  プラズマ化学気相成長 ,  エピタキシャル成長 ,  IV族半導体 ,  量子効果デバイス ,  歪ヘテロ構造
競争的資金等の研究課題 (24件):
  • 2024 - 2027 3C/4Hヘテロエピ基板を用いた高信頼・高移動度SiCパワーMOSFET製作
  • 2022 - 2025 エッジ応用に向けた超低消費電力スパイキングニューラルネットワークハードウェア
  • 2018 - 2020 Si極薄膜における低エネルギープラズマ誘起再配列による結晶構造転換の実験的研究
  • 2015 - 2018 サブ原子層カーボンの媒介による緩和Ge薄膜と量子ドットの選択的形成とデバイス応用
  • 2012 - 2015 サーファクタント媒介による緩和Ge薄膜結晶の形成とデバイス応用
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論文 (218件):
  • Hiroyuki Nagasawa, Yasuo Cho, Maho Abe, Takenori Tanno, Michimasa Musya, Masao Sakuraba, Yusuke Sato, Shigeo Sato. SNDM Study of the MOS Interface State Densities on the 3C-SiC / 4H-SiC Stacked Structure. Solid State Phenomena. 2024. 362. 19. 33-40
  • Yifan Dai, Hideaki Yamamoto, Masao Sakuraba, Shigeo Sato. Computational Efficiency of a Modular Reservoir Network for Image Recognition. Frontiers in Computational Neuroscience. 2021. 15
  • Yoshihiro Osakabe, Shigeo Sato, Hisanao Akima, Mitsunaga Kinjo, Masao Sakuraba. Learning rule for a quantum neural network inspired by Hebbian learning. IEICE Transactions on Information and Systems. 2021. E104D. 2. 237-245
  • Wu Li, Masao Sakuraba, Shigeo Sato. Electron-cyclotron resonance Ar plasma-induced electrical activation of B atoms without substrate heating in B doped Si epitaxial films on Si(100). Materials Science in Semiconductor Processing. 2020. 107
  • 佐藤茂雄, 田村祐樹, 守谷 哲, 加藤達暉, 櫻庭政夫, 堀尾喜彦, Jordi Madrenas. A spiking neuron MOS circuit for low-power neuromorphic computation. Proceedings of International Symposium on Nonlinear Theory and Its Applications. 2019. 80-80
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MISC (10件):
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特許 (17件):
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書籍 (10件):
  • 展示パネル「半導体って何だろう??」(「親子で知ろう!半導体ってなんだろう?inダテリウム」、主催:宮城県(経済商工観光部 新産業振興課))
    宮城県(経済商工観光部 新産業振興課) 2024
  • 月刊「Newsがわかる」特別編 半導体がわかる2024
    毎日新聞出版 2024
  • 月刊「Newsがわかる」特別編 半導体がわかる
    毎日新聞出版 2023 ISBN:9784620794648
  • Chapter 4: Low-Energy Plasma CVD for Epitaxy and In-Situ Doping of Group-IV Semiconductors in Nanoelectronics (in "Chemical Vapor Deposition (CVD): Types, Uses and Selected Research" (ebook) (Edited by Monica Powell))
    Nova Science Publishers, Inc. 2017 ISBN:9781536109085
  • Chapter 4: Low-Energy Plasma CVD for Epitaxy and In-Situ Doping of Group-IV Semiconductors in Nanoelectronics (in "Chemical Vapor Deposition (CVD): Types, Uses and Selected Research" (Book) (Edited by Monica Powell))
    Nova Science Publishers, Inc. 2017 ISBN:9781536108934
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講演・口頭発表等 (311件):
  • 同時横方向エピタキシャル成長(SLE)法により製作した3C/4Hポリタイプヘテロ構造SiCウェハを用いたAlゲートMOSダイオードの電気特性
    (先進パワー半導体分科会第11回講演会 2024)
  • 走査型非線形誘電率顕微鏡法を用いた3C-SiC/4H-SiC積層構造MOS界面の定量評価
    (44th Annual NANO Testing Symposium (NANOTS2024) 2024)
  • Study of gate dielectric formation process and evaluation of electrical characteristics for high performance 4H-SiC-MOSFETs
    (15th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics 2024)
  • Formation of Alternating Epilayers of 4H-SiC and 3C-SiC by Simultaneous Lateral Epitaxy
    (Internatonal Conference on Silicon Carbide and Related Materials (ICSCRM) 2024)
  • 4H-SiC-MOSFETの高性能化のためのゲート絶縁膜形成プロセスと電気特性評価に関する研究
    (電気関係学会東北支部連合大会 2024)
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学歴 (3件):
  • 1992 - 1995 東北大学 大学院工学研究科 電気及通信工学専攻 博士後期課程, 博士(工学)
  • 1990 - 1992 東北大学 大学院工学研究科 電気及通信工学専攻 博士前期課程, 修士(工学)
  • 1986 - 1990 東北大学 工学部 電気工学科, 学士(工学)
学位 (1件):
  • 博士(工学) (東北大学)
経歴 (6件):
  • 2023/04 - 現在 東北大学 電気通信研究所 附属ナノ・スピン実験施設 ナノ集積デバイス・システム研究室 量子へテロ構造高集積化プロセス研究部 准教授
  • 2012/04 - 2023/03 東北大学 電気通信研究所 附属ナノ・スピン実験施設 ナノ集積デバイス・プロセス研究室 量子へテロ構造高集積化プロセス研究部 准教授
  • 2007/04 - 2012/03 東北大学 電気通信研究所 附属ナノ・スピン実験施設 ナノへテロプロセス研究室 量子へテロ構造高集積化プロセス研究部 准教授
  • 2004/04 - 2007/03 東北大学 電気通信研究所 附属ナノ・スピン実験施設 ナノへテロプロセス研究部 助教授
  • 2002/08 - 2004/03 東北大学 電気通信研究所 附属超高密度・高速知能システム実験施設 原子制御プロセス部 助教授
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委員歴 (13件):
  • 2018/02 - 現在 新IV族半導体ナノエレクトロニクス国際ワークショップ 組織委員長
  • 2014/03 - 現在 (社)応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会 ULSIデバイス研究委員会, 幹事
  • 2023/01 - 2024/12 米国電気化学会日本セクション 一般委員
  • 2013/04 - 2015/03 (社)応用物理学会 論文賞委員会
  • 2010/04 - 2012/03 (社)応用物理学会 和文機関紙「応用物理」編集委員会委員
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受賞 (3件):
  • 2015/11/27 - (財)石田實記念財団 平成27年度 石田實記念財団 研究奨励賞 「IV族半導体量子ヘテロ構造高集積化のためのプラズマCVDプロセスに関する研究」
  • 2002/03/26 - (財)トーキン科学技術振興財団 第12回(平成13年度) トーキン科学技術振興財団 研究奨励賞 「原子層積層によるIV族半導体量子ヘテロ構造の製作」
  • 1992/08/26 - 固体素子・材料に関する国際会議 1992年 固体素子・材料に関する国際会議 新人研究者賞 【対象論文】 “Atomic Layer Control of Germanium and Silicon on Silicon Using Flash Heating in Ultraclean Chemical Vapor Deposition”
所属学会 (2件):
The Electrochemical Society ,  応用物理学会
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