研究者
J-GLOBAL ID:200901096673125498
更新日: 2024年02月14日
福田 常男
フクダ ツネオ | Fukuda Tsuneo
所属機関・部署:
大阪公立大学 工学研究科 電子情報系専攻
大阪公立大学 工学研究科 電子情報系専攻 について
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職名:
准教授
研究分野 (1件):
薄膜、表面界面物性
研究キーワード (1件):
表面科学
競争的資金等の研究課題 (4件):
2019 - 2024 低・中真空下でのすべり流領域における真空排気コンダクタンスの実験的研究
表面構造制御とデバイス応用の研究
Vacuum technology and tsemiconductor thin film growth
Controlling of semiconductor surface
論文 (20件):
Kouichi Tsuji, Tsugufumi Matsuyama, Tsuneo Fukuda, Soichiro Shima, Mayuko Toba, Jun-Seok Oh, Tatsuru Shirafuji. Total reflection X-ray fluorescence analysis with a glass substrate treated with a He atmospheric pressure plasma jet. Journal of Analytical Atomic Spectrometry. 2021
横川 敬一, 瀬戸 泰平, 福田 常男. 低・中真空領域における排気方程式の検証. 公益社団法人 日本表面真空学会 表面と真空. 2018. 61. 5. 292-295
T. Fukuda, I. Kishida. First-principles study of silicon-embedded Ni(110). e-Journal of Surface Science and Nanotechnology. 2017. 15. 96-101
T. Fukuda, I. Kishida, K. Umezawa. Initial surface silicidation on Ni(110). Surface Science. 2017. 659. 1-4
横川 敬一, 瀬戸 康平, 福田 常男. 低・中真空領域での排気方程式の検討. 公益社団法人 日本表面科学会 表面科学学術講演会要旨集. 2017. 37
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MISC (11件):
低真空・中真空技術の基礎と応用. 真空. 2015. 58. 9. 325-329
鈴木 佳一, 福田 常男, 中山 弘. Si(111)7×7表面上でのアクティブからパッシブ酸化への遷移. The Vacuum Society of Japan 真空 = JOURNAL OF THE VACUUM SOCIETY OF JAPAN. 2005. 48. 5. 350-352
福田 常男, 鈴木 佳一, 中山 弘. 13aXF-8 Si(111) 表面酸化における拡散種の動的パーコレーション(表面界面ダイナミクス : シリコン・ダイヤモンド, 領域 9). 日本物理学会講演概要集. 2004. 59. 2. 799-799
福田 常男, 前田 聡, 中山 弘. 25pPSB-44 Si(111)7×7表面ステップ端キンクの酔歩運動(25pPSB 表面界面・結晶成長,領域9(表面・界面,結晶成長分野)). 日本物理学会講演概要集. 2002. 57. 1. 846-846
T Fukuda. Initial oxygen interaction between Ge(100) and Ge/Si(100) surfaces compared by scanning tunneling microscopy. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS. 1999. 38. 12A. L1450-L1452
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書籍 (3件):
最新実用真空技術総覧
株式会社 エヌ・ティ・エス 2019
真空科学ハンドブック
コロナ社 2017
「わかりやすい真空技術(第3版)」
日刊工業新聞社 2010 ISBN:9784526064258
講演・口頭発表等 (5件):
Silicene formation on the Ag/Ni(111) surface
(ECOSS-34 2018)
In situ observation of the indium-induced phase transition on the Si(111) surface by high-temperature STM
(ICN+T2018 2018)
Hydrogen effect of the low-resistive ITO films on plastic substrates
(ITFPC2017 2017)
Site Correlation of Two-dimensional Cu-Ni Alloys on Ni(110)
(ECOSS-33 2017)
2次元Cu-Ni合金の構造相関
(日本物理学会第73回年次大会 2017)
学歴 (2件):
- 1990 東京大学 工学系研究科 物理工学専攻
- 1984 東京理科大学 理学部 応用物理学科
学位 (1件):
工学博士 (東京大学)
経歴 (5件):
2001/04/01 - 現在 大阪市立大学 工学研究科 電子情報系専攻 准教授
1990 - 2001 日本電信電話(株)
1990 - 2001 Nippon Telegraph and Telephone Co.
2001 - Associate Professor
2001 - 大阪市立大学 助教授
所属学会 (3件):
日本物理学会
, 応用物理学会
, 表面真空学会
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