研究者
J-GLOBAL ID:200901096673125498   更新日: 2024年02月14日

福田 常男

フクダ ツネオ | Fukuda Tsuneo
所属機関・部署:
職名: 准教授
研究分野 (1件): 薄膜、表面界面物性
研究キーワード (1件): 表面科学
競争的資金等の研究課題 (4件):
  • 2019 - 2024 低・中真空下でのすべり流領域における真空排気コンダクタンスの実験的研究
  • 表面構造制御とデバイス応用の研究
  • Vacuum technology and tsemiconductor thin film growth
  • Controlling of semiconductor surface
論文 (20件):
MISC (11件):
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書籍 (3件):
  • 最新実用真空技術総覧
    株式会社 エヌ・ティ・エス 2019
  • 真空科学ハンドブック
    コロナ社 2017
  • 「わかりやすい真空技術(第3版)」
    日刊工業新聞社 2010 ISBN:9784526064258
講演・口頭発表等 (5件):
  • Silicene formation on the Ag/Ni(111) surface
    (ECOSS-34 2018)
  • In situ observation of the indium-induced phase transition on the Si(111) surface by high-temperature STM
    (ICN+T2018 2018)
  • Hydrogen effect of the low-resistive ITO films on plastic substrates
    (ITFPC2017 2017)
  • Site Correlation of Two-dimensional Cu-Ni Alloys on Ni(110)
    (ECOSS-33 2017)
  • 2次元Cu-Ni合金の構造相関
    (日本物理学会第73回年次大会 2017)
学歴 (2件):
  • - 1990 東京大学 工学系研究科 物理工学専攻
  • - 1984 東京理科大学 理学部 応用物理学科
学位 (1件):
  • 工学博士 (東京大学)
経歴 (5件):
  • 2001/04/01 - 現在 大阪市立大学 工学研究科 電子情報系専攻 准教授
  • 1990 - 2001 日本電信電話(株)
  • 1990 - 2001 Nippon Telegraph and Telephone Co.
  • 2001 - Associate Professor
  • 2001 - 大阪市立大学 助教授
所属学会 (3件):
日本物理学会 ,  応用物理学会 ,  表面真空学会
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