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J-GLOBAL ID：200902154114312443   整理番号：01A0350768

過冷却溶融シリコンのX線回折研究

X-ray diffraction study of undercooled molten silicon.

著者 (9件)： KIMURA H (NEC Corp., Tsukuba, JPN) ,  WATANABE M (NEC Corp., Tsukuba, JPN) ,  IZUMI K (NEC Corp., Tsukuba, JPN) ,  HIBIYA T (NEC Corp., Tsukuba, JPN) ,  HOLLAND-MORITZ D (DLR, Koeln, DEU) ,  SCHENK T (DLR, Koeln, DEU) ,  EGRY I (DLR, Koeln, DEU) ,  FUNAKOSHI K (Japan Synchrotron Radiation Res. Inst., Sayo, JPN) ,  HANFLAND M (European Synchrotron Radiation Facility, Grenoble, FRA)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 78  号： 5  ページ： 604-606  発行年： 2001年01月29日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 溶融シリコンにおける短距離秩序を,広い温度域1893~140...

シソーラス用語： *ケイ素 ,...

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分類 (1件)： 液体構造一般  (BK02010E)

タイトルに関連する用語 (4件)： 過冷却 ,  溶融シリコン ,  X線回折 ,  研究