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J-GLOBAL ID：200902185337234617   整理番号：99A0938414

光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発 (第5報) Siウエハ表面に対する洗浄前後の微粒子測定による表面評価

Designing a New Apparatus for Measuring Particle Sizer of Nanometer Order by Light-Scattering. (5th Report). Evaluation of the Surface by Measuring Particles on a Si Wafer before and after Cleaning.

著者 (8件)： 安弘 (大阪電通大 工) ,  佐々木都至 (大阪電通大 大学院) ,  森勇蔵 (大阪大 大学院) ,  片岡俊彦 (大阪大 大学院) ,  遠藤勝義 (大阪大 大学院) ,  井上晴行 (大阪大 大学院) ,  山内和人 (大阪大 大学院) ,  谷口浩之 (日本分光)
資料名： 精密工学会誌  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
巻： 65  号： 10  ページ： 1435-1439  発行年： 1999年10月05日 
JST資料番号： F0268A  ISSN： 0912-0289  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： Arレーザ光散乱法を用いて鏡面仕上したウエハ表面の直径19n...

シソーラス用語： *ウエハ【IC】 ,...
準シソーラス用語： 検査装置

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分類 (1件)： 固体デバイス材料  (NC03020K)

引用文献 (6件)：

• 森勇蔵. 光散乱法によるナノメーターオーダの粒径測定法の開発. 精密工学会誌. 1988, 54, 11, 2132
• 森勇蔵. 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第2報)-標シリコンウエハ付着微粒子の測定-. 精密工学会誌. 1990, 55, 10, 1847
• 森勇蔵. 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第3報)-標準微粒子による粒径測定法の評価-. 精密工学会誌. 1993, 59, 7, 1121
• AN, H. A New Apparatus for Measuring Particle Sizes of the Order of Nanometer, (2nd Report)-Evaluation of Measuring System by using Standard Particlesint. Int. J. JSPE. 1994, 28, 4, 356-361
• 安弘. 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第4報)-光電子増倍管出力特性の定式化とダイナミックレンジの改善法. 精密工学会誌. 1996, 62, 8, 1198

タイトルに関連する用語 (9件)： 光散乱法 ,  ナノメータ ,  オーダ ,  粒径測定 ,  開発 ,  Siウエハ ,  洗浄 ,  微粒子 ,  評価