ESRによるHfO<sub>2</sub>薄膜の欠陥評価

金島岳; 池田幸司; 多田泰三; 寒川雅之; 奥山雅則

文献

J-GLOBAL ID：200902209853487137 整理番号：04A0570484

ESRによるHfO₂薄膜の欠陥評価

Characterization of Defects in HfO₂ by ESR

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巻： 104 号： 135(SDM2004 47-59) ページ： 43-48 発行年： 2004年06月22日
JST資料番号： S0532B ISSN： 0913-5685 資料種別：会議録 (C)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

HfO₂薄膜をレーザーアブレーション法...

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固体デバイス材料 , 酸化物薄膜

引用文献 (24件)：

KINGON, A. I. Nature (London). 2000, 406, 1032
MANCHANDA, L. Tech. Dig. IEDM2000. 2000, 23
QI, W. Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 1704
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ESRによるHfO2薄膜の欠陥評価

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