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文献
J-GLOBAL ID：200902213254232799
整理番号：05A0536756 ホモシステイン単分子膜修飾金電極におけるDOPAの酸化還元のキラル選択性
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長坂誠
, 松永真理子
, 中西卓也
, 朝日透
, 逢坂哲弥
資料名：
電気化学会大会講演要旨集
電気化学会大会講演要旨集 について
巻： 72nd ページ： 53 発行年： 2005年04月01日
JST資料番号： Y0048A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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*化学修飾電極
,...
化学修飾電極 について
分類 (2件)：
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
電極過程
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
(CB07040U)
, 反応の立体化学
電極過程 について
(CF02130V)
反応の立体化学 について
物質索引 (3件)：
物質索引
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ホモシステイン
,
, ホモシステイン について
3,4-ジヒドロキシフェニルアラニン
3,4-ジヒドロキシフェニルアラニン について
タイトルに関連する用語 (8件)：
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ホモシステイン
, ホモシステイン について
単分子膜
, 単分子膜 について
修飾
, 修飾 について
金電極
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DOPA
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酸化還元
, 酸化還元 について
キラル
, キラル について
選択性
選択性 について
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