文献

J-GLOBAL ID：200902253290751664   整理番号：03A0506405

光硬化性ポリマーを用いたナノリソグラフィにおけるラインエッジ粗さの評価

Evaluation of Line Edge Roughness in Nanoimprint Lithography Using Photocurable Polymer

著者 (5件)： KURASHIMA Y (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  KOMURO M (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  HIROSHIMA H (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  TANIGUCHI J (Tokyo Univ. Sci., Chiba, JPN) ,  MIYAMOTO I (Tokyo Univ. Sci., Chiba, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 42  号： 6B  ページ： 3871-3873  発行年： 2003年06月30日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光硬化性ポリマーを用いたナノインプリント複製の極限精度を評価...

シソーラス用語： エッチング ,...
準シソーラス用語： 光橋架け ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=03A0506405&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=G0520B") }}

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (7件)：

• 1) S. Chou, P. R. Krauss and P. J. Renstorm: Appl. Phys. Lett. 67 (1995) 3114.
• 2) J. Haisma, M. Verheijen, K. van den Heuvel and J. van den Berg: J. Vac. Sci. & Technol. <B>B14</B> (1996) 4124.
• 3) M. Colburm, S. Johnson, M. Stewart, S. Damle, T. Bailey, B. Choi, M. Wedlake, T. Michaelson, S. V. Sreenivasan, J. Ekerdt and C. G. Willson: Proc. Int. Soc. Opt. Eng. 3676 (1999) 379.
• 4) H. Hiroshima, S. Inoue, N. Kasahara, J. Taniguchi, I. Miyamoto and M. Komuro: Jpn. J. Appl. Phys. 41 (2002) 4173.
• 5) M. Komuro, J. Taniguchi, S. Inoue, N. Kimura, Y. Tokano, H. Hiroshima and S. Matsui: Jpn. J. Appl. Phys. 39 (2000) 7075.

タイトルに関連する用語 (5件)： 光硬化 ,  ポリマー ,  ナノリソグラフィ ,  ラインエッジ粗さ ,  評価