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J-GLOBAL ID：200902264738618253   整理番号：09A1257156

シリコン酸化物層をもつ界面での有機サブナノ層によるAg薄膜の改善された熱安定性

Improved Thermal Stability of Ag Thin Films by Organic Subnanolayer at Interface with Silicon Oxide Layer

著者 (4件)： KAWAMURA Midori (Kitami Inst. Technol., Hokkaido, JPN) ,  FUDEI Terumasa (Kitami Inst. Technol., Hokkaido, JPN) ,  ABE Yoshio (Kitami Inst. Technol., Hokkaido, JPN) ,  SASAKI Katsutaka (Kitami Inst. Technol., Hokkaido, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 48  号： 11  ページ： 118002.1-118002.2  発行年： 2009年11月25日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノメートル以下の厚い有機分子層が,特徴としてチオール部分を有する3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン(MPTMS)を使用するSiO₂/Si基板上で準備された。60nm厚さのAg膜が界面でMPTMSをもつ,あるいはもたないSiO₂/Si基板上で蒸着され,熱安定性が比較された。400°Cで焼なましの後,MPTMS界面層をもつAg薄膜はMPTMS界面層をもたない場合よりもより良い安定性を示すことが形態観察の結果から決定された。増大はAg原子とMPTMS中のチオール部分の間の強い結合によって引き起こされると考えられる。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 界面 ,  チオール ,  *銀 ,  *熱安定性 ,  蒸着 ,  層 ,  二酸化ケイ素 ,  *金属薄膜 ,  *化学修飾
準シソーラス用語： シリコン ,  有機サブナノ層

分類 (1件)： 金属薄膜  (BK14030T)

物質索引 (1件)： 3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン

引用文献 (12件)：

• M. Kawamura, Y. Inami, Y. Abe, and K. Sasaki: Jpn. J. Appl. Phys.47(2008)8917.
• M. Kawamura, D. Fukuda, Y. Inami, Y. Abe, and K. Sasaki: J. Vac. Sci. Technol. A 27(2009)975.
• A. Ulman: Chem. Rev.96(1996)1533.
• G. Ramanath, G. Cui, P. G. Ganesan, X. Guo, A. V. Ellis, M. Stukowski, K. Vijayamohanan, P. Doppelt, and M. Lane: Appl. Phys. Lett.83(2003)383.
• D. D. Gandhi, M. Lane, Y. Zhou, A. P. Singh, S. Nayak, U. Tisch, M. Eizenberg, and G. Ramanath: Nature 447(2007)299.

タイトルに関連する用語 (8件)： シリコン ,  酸化物層 ,  界面 ,  サブ ,  ナノ層 ,  Ag ,  薄膜 ,  熱安定性