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J-GLOBAL ID：200902266967551734   整理番号：06A0935305

レーザ光散乱法によるSiウエハ表面上の極薄酸化膜段差の計測

Observation of Oxide-film Step with Very Small Height on Si Wafer Surface Using a Laser Scattering Method

著者 (8件)： 井上晴行 (大阪大 大学院工学研究科) ,  片岡俊彦 (大阪大 大学院工学研究科) ,  長尾祥浩 (旭硝子) ,  押鐘寧 (大阪大 大学院工学研究科) ,  中野元博 (大阪大 大学院工学研究科) ,  越智保文 (三浦工業) ,  有馬健太 (大阪大 大学院工学研究科) ,  森田瑞穂 (大阪大 大学院工学研究科)
資料名： 精密工学会誌(CD-ROM)  (精密工学会誌論文集)
巻： 72  号： 11  ページ： 1363-1367  発行年： 2006年11月05日 
JST資料番号： F0268B  ISSN： 1348-8716  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本研究ではSiウエハ上の極薄酸化膜をリソグラフィーによりパタ...

シソーラス用語： *ウエハ【IC】 ,...
準シソーラス用語： *段付き

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分類 (1件)： 固体デバイス計測・試験・信頼性  (NC03040G)

引用文献 (9件)：

• 松下嘉明編. 超精密ウェーハ表面制御技術. 2000, 298
• 高橋哲. 光散乱パターンを用いたシリコンウエハ加工表面欠陥のインプロセス計測に関する研究 (第2報)-高速欠陥計測法の提案-. 精密工学会誌. 2002, 68, 7, 962
• 片岡俊彦. シリコンウエハ表面上の微粒子・微小欠陥による光散乱-散乱光強度およびレンズによる像形成の計算-. 精密工学会誌. 2000, 66, 11, 1716
• 井上晴行. レーザ光散乱法によるSiウエハ付着超微粒子計測. 精密工学会誌. 2002, 68, 2, 264
• 井上晴行. レーザ光散乱法によるSiウエハ表面上の超微小欠陥計測. 精密工学会誌. 2002, 68, 10, 1337

タイトルに関連する用語 (7件)： レーザ ,  光散乱法 ,  Siウエハ ,  極 ,  酸化膜 ,  段差 ,  計測